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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2023-11-01
公开（公告）日：2024-05-10
公开（公告）号：CN118016558A
主分类号：H01L21/67
分类号：H01L21/67;B01D35/28;B01D35/16;G03F7/30
优先权：["20221109 JP 2022-179751"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.05.10#公开
摘要：本发明提供一种基板处理装置。不将配置有用于积存处理液的瓶的液积存部新设置于基板处理装置的外部，就使能够使用于基板的液处理的上述瓶的个数增加。其具有：承载区块，收纳有基板的承载件输入该承载区块；处理区块，其设置有相对于从所述承载区块输送的所述基板供给处理液而进行液处理的液处理模块；以及转接区块，所述基板从所述处理区块向该转接区块输送，所述转接区块具有液积存部，该液积存部配置有用于积存所述处理液的瓶，所述承载区块具有使从所述液积存部供给来的所述处理液向所述液处理模块送液的送液部，所述送液部具备：过滤器，其用于过滤从所述液积存部送液的所述处理液；和第1泵，其朝向所述液处理模块加压输送所述处理液。
主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具有：承载区块，收纳有基板的承载件输入该承载区块；处理区块，其设置有相对于从所述承载区块输送的所述基板供给处理液而进行液处理的液处理模块；以及转接区块，所述基板从所述处理区块向该转接区块输送，所述转接区块具有液积存部，该液积存部配置有用于积存所述处理液的瓶，所述承载区块具有使从所述液积存部供给来的所述处理液向所述液处理模块送液的送液部，所述送液部具备：过滤器，其用于过滤从所述液积存部送液的所述处理液；以及第1泵，其朝向所述液处理模块加压输送所述处理液。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
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