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龙图腾网恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110244517B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-11-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201810982415.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法是由陈勇辉;张俊设计研发完成，并于2018-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法。该曝光装置包括：测量单元、曝光单元和中转传输单元；测量单元用于放置基底，并测量基底的位置；测量单元包括可拆卸的载盘子单元，载盘子单元用于吸附基底，且载盘子单元与被吸附的基底同步传输；中转传输单元用于固定和传输基底、载盘子单元、基底以及吸附基底的载盘子单元；中转传输单元用于在曝光单元闲置时将测量后的基底以及吸附基底的载盘子单元同步传输至曝光单元，以及用于在测量单元闲置时将未吸附基底的载盘子单元传输至测量单元；曝光单元用于对测量后的基底进行曝光。该技术方案可协调测量时间和曝光时间，提高双台曝光光刻技术的产能。

本发明授权曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种曝光装置，其特征在于，包括：测量单元、曝光单元和中转传输单元；所述测量单元用于放置基底，并测量所述基底的位置；所述测量单元包括可拆卸的载盘子单元，所述载盘子单元用于吸附所述基底；所述中转传输单元用于固定和传输所述载盘子单元，或载有所述基底的所述载盘子单元；所述中转传输单元用于在所述曝光单元闲置时将测量后的所述基底以及吸附所述基底的所述载盘子单元同步传输至所述曝光单元，以及用于在所述测量单元闲置时将未吸附所述基底的所述载盘子单元传输至所述测量单元；所述曝光单元用于对测量后的所述基底进行曝光；所述中转传输单元在所述曝光单元对某一测量后的基底进行曝光的过程中，在所述测量单元同步进行另一基底的位置的测量，并将测量后的基底和吸附基底的所述载盘子单元固定于中转传输单元。

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