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龙图腾网恭喜北京芯美达科技有限公司申请的专利一种MPCVD化学气相沉积设备的气路结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222313303U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421168998.1，技术领域涉及：C23C16/511；该实用新型一种MPCVD化学气相沉积设备的气路结构是由梁奇;汤磊;陈波设计研发完成，并于2024-05-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种MPCVD化学气相沉积设备的气路结构在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种MPCVD化学气相沉积设备的气路结构，包括底座，所述底座的上方一侧安装有固定盘，所述固定盘的上方贯穿有第一螺栓，所述固定盘的上方固定有立柱，所述立柱的一侧安装有旋钮，所述立柱的内部活动安装有伸缩杆，所述伸缩杆的上方固定有管架，所述管架的一侧安装有输气管，所述输气管的一端安装有连接头；该一种MPCVD化学气相沉积设备的气路结构，通过连接头、过滤管、滤芯、软管和气泵的配合使用，通过打开气泵的开关能够将气体送入到过滤管内部，气体在过滤管的内部被滤芯进行过滤，滤芯为活性炭材质可以将气体中的有害物质进行吸附，从而能够提供相对纯净的气体，使得MPCVD化学气相沉积设备在进行化学反应时具有较高的质量。

本实用新型一种MPCVD化学气相沉积设备的气路结构在权利要求书中公布了：1.一种MPCVD化学气相沉积设备的气路结构，包括底座1，其特征在于：所述底座1的上方一侧安装有固定盘2，所述固定盘2的上方贯穿有第一螺栓3，所述固定盘2的上方固定有立柱4，所述立柱4的一侧安装有旋钮5，所述立柱4的内部活动安装有伸缩杆6，所述伸缩杆6的上方固定有管架7，所述管架7的一侧安装有输气管8，所述输气管8的一端安装有连接头12，所述连接头12的下方安装有过滤管13，所述过滤管13的内部安装有滤芯14，所述过滤管13的下方安装有软管15，所述软管15的下方安装有气泵16。

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