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龙图腾网恭喜三星电子株式会社申请的专利集成电路及其制造方法和设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111276479B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910992060.9，技术领域涉及：H10D84/40；该发明授权集成电路及其制造方法和设计方法是由金珉修设计研发完成，并于2019-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本集成电路及其制造方法和设计方法在说明书摘要公布了：提供一种集成电路及其制造方法和设计方法。所述集成电路包括半导体基底、多条栅极线和多条金属线。所述多条栅极线形成在半导体基底上方的栅极层中，其中，所述多条栅极线布置在第一方向上并且在垂直于第一方向的第二方向上延伸。所述多条金属线形成在栅极层上方的导电层中，其中，所述多条金属线布置在第一方向上并且在第二方向上延伸。6N条金属线和4N条栅极线形成单元线路结构，其中，N是正整数，并且多个单元线路结构布置在第一方向上。通过单元线路结构增强集成电路的设计效率和性能。

本发明授权集成电路及其制造方法和设计方法在权利要求书中公布了：1.一种集成电路，所述集成电路包括：半导体基底；多条栅极线，形成在半导体基底上方的栅极层中，所述多条栅极线布置在第一方向上并且在垂直于第一方向的第二方向上延伸；以及多条金属线，形成在栅极层上方的导电层中，所述多条金属线布置在第一方向上并且在第二方向上延伸，其中，所述多条金属线包括6N条金属线，所述多条栅极线包括4N条栅极线，6N条金属线和4N条栅极线形成单元线路结构，N是正整数，并且多个单元线路结构布置在第一方向上，其中，所述多条金属线之中的在第一方向上顺序地相邻的每三条金属线之间的两个金属节距彼此不同，并且其中，单元线路结构是未被划分为至少两个相等的子线路结构的最小单元结构。

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