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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基片支承器和等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111161990B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911069339.6，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基片支承器和等离子体处理装置是由佐佐木康晴;小岩真悟设计研发完成，并于2019-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本基片支承器和等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明涉及基片支承器和等离子体处理装置。例示的实施方式的基片支承器包括支承基片的第1支承区域和支承聚焦环的第2支承区域。第2支承区域在周向延伸。第2支承区域包括下部电极、保持区域和接合区域。保持区域包括第1电极和第2电极。第1电极和第2电极在周向延伸。第1电极设置于第2电极的内侧。分别与第1电极和第2电极连接的第1导线和第2导线在接合区域内在比第2支承区域的内侧边界和外侧边界靠内侧边界与外侧边界之间的中央部的附近或者中央部上延伸。本发明谋求在第1导线和第2导线各自与等离子体空间之间确保较大的距离，该第1导线和第2导线分别与用于保持聚焦环的保持区域的第1电极和第2电极连接。

本发明授权基片支承器和等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置中使用的基片支承器，其特征在于，包括：用于载置基片的第1区域；和以包围所述第1区域的方式配置的第2区域，所述第2区域包括：下部电极；包括第1环状电极和第2环状电极的聚焦环保持区域，该第1环状电极配置在该第2环状电极的内侧，所述聚焦环保持区域构成为能够用在该第1环状电极与该第2环状电极之间的电位差来保持所述聚焦环；和接合区域，其具有绝缘性，设置于所述聚焦环保持区域与所述下部电极之间，该基片支承器还包括：第1导线，其通过所述接合区域在纵向上延伸，以第1电位与所述第1环状电极连接；和第2导线，其通过所述接合区域在纵向上延伸，以不同于所述第1电位的第2电位与所述第2环状电极连接，所述第1导线俯视时在沿所述第2区域延伸的第1圆的圆周上与所述第1环状电极连接，所述第2导线俯视时在所述第1圆的圆周上与所述第2环状电极连接，所述第1圆俯视时与所述第1环状电极和所述第2环状电极交替地重叠。

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