买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜新应材股份有限公司申请的专利移除方法、积层体、形成方法及聚酰亚胺树脂获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113219796B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010069273.7，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权移除方法、积层体、形成方法及聚酰亚胺树脂是由杨子瑾;林勇宇;赖积佑;钟明哲;张哲玮设计研发完成，并于2020-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本移除方法、积层体、形成方法及聚酰亚胺树脂在说明书摘要公布了：本发明提供一种可形成具有良好的剥离性的聚酰亚胺树脂、移除光致抗蚀剂的方法、层合板、形成金属图案的方法及剥离液。移除光致抗蚀剂的方法包括：于基板上形成离型层，离型层具有彼此相对的第一表面与第二表面，其中离型层的第一表面与基板接触；于离型层的第二表面上形成光致抗蚀剂层；以及移除离型层以及光致抗蚀剂层。离型层是由聚酰亚胺树脂所形成。聚酰亚胺树脂是由四羧酸二酐类、二胺类以及苯酚胺类进行聚合反应而获得。二胺类包括羟基氟化二胺类、苯甲酸二胺类以及氨基四甲基二硅氧烷类。

本发明授权移除方法、积层体、形成方法及聚酰亚胺树脂在权利要求书中公布了：1.一种移除光致抗蚀剂的方法，包括：于基板上形成离型层，所述离型层具有彼此相对的第一表面与第二表面，其中所述离型层的所述第一表面与所述基板接触；于所述离型层的所述第二表面上形成光致抗蚀剂层；以及移除所述离型层以及所述光致抗蚀剂层，其中所述离型层是由聚酰亚胺树脂所形成，所述聚酰亚胺树脂是由四羧酸二酐类、二胺类以及苯酚胺类进行聚合反应而获得，其中所述四羧酸二酐类包括双环[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐，所述二胺类包括羟基氟化二胺类、苯甲酸二胺类以及氨基四甲基二硅氧烷类，所述苯酚胺类包括3-胺苯酚。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人新应材股份有限公司，其通讯地址为：中国台湾桃园市龙潭区新和路455号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。