成都拓维高科光电科技有限公司周俊吉获国家专利权
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龙图腾网获悉成都拓维高科光电科技有限公司申请的专利一种大尺寸公共掩膜版获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222574752U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420627901.2，技术领域涉及：C23C14/04；该实用新型一种大尺寸公共掩膜版是由周俊吉设计研发完成，并于2024-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种大尺寸公共掩膜版在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种大尺寸公共掩膜版，属于掩膜版领域，还包括N根因瓦条和N+1个因瓦蚀刻单元，N根因瓦条等距排列在因瓦框内，N+1个因瓦蚀刻单元顺次排列在因瓦框内，每根因瓦条上端与因瓦框上边连接，下端与因瓦框下边连接，每一因瓦蚀刻单元上边与因瓦框上边连接，每一因瓦蚀刻单元下边与因瓦框下边连接，N+1个因瓦蚀刻单元左边中，最左边的一个与因瓦框左边连接，其余的与相邻的因瓦条连接，N+1个因瓦蚀刻单元右边中，最右边的一个与因瓦框右边连接，其余的与相邻的因瓦条连接。本实用新型可适用于大尺寸OLED公共层蒸镀。
本实用新型一种大尺寸公共掩膜版在权利要求书中公布了：1.一种大尺寸公共掩膜版，以压延因瓦原材形成的因瓦原材宽度为a、长度为b、厚度为h0为基准，其中，a为压延设备的压延最大宽度，包括因瓦框，因瓦框包括因瓦框上边、因瓦框左边、因瓦框下边和因瓦框右边，其特征在于，所述大尺寸公共掩膜版还包括N根因瓦条和N+1个因瓦蚀刻单元，N根因瓦条等距排列在因瓦框内，N+1个因瓦蚀刻单元顺次排列在因瓦框内，每个因瓦蚀刻单元包括因瓦蚀刻单元左边、因瓦蚀刻单元上边、因瓦蚀刻单元下边、因瓦蚀刻单元右边以及位于因瓦蚀刻单元左边、因瓦蚀刻单元上边、因瓦蚀刻单元下边、因瓦蚀刻单元右边内的因瓦蚀刻单元网格，每根因瓦条上端与因瓦框上边连接，下端与因瓦框下边连接，每一因瓦蚀刻单元上边与因瓦框上边连接，每一因瓦蚀刻单元下边与因瓦框下边连接，N+1个因瓦蚀刻单元左边中，最左边的一个与因瓦框左边连接，其余的与相邻的因瓦条连接，N+1个因瓦蚀刻单元右边中，最右边的一个与因瓦框右边连接，其余的与相邻的因瓦条连接,因瓦蚀刻单元宽度为a,长度为b，N为自然数。
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