恭喜北京晶亦精微科技股份有限公司戴豪获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜北京晶亦精微科技股份有限公司申请的专利一种碳化硅晶圆化学机械抛光系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222581100U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420228035.X，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型一种碳化硅晶圆化学机械抛光系统是由戴豪;张为强;李伟;王嘉琪;王磊;吴尚东设计研发完成，并于2024-01-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种碳化硅晶圆化学机械抛光系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种碳化硅晶圆化学机械抛光系统，属于晶圆化学机械抛光技术领域，抛光系统包括电化学反应单元、抛光单元、数据采集单元和控制单元，所述电化学反应单元包括反应槽，所述反应槽的内部用于放置待处理晶圆和电解液，所述电化学反应单元通电对所述待处理晶圆进行电化学反应；抛光单元用于对电化学反应后的待处理晶圆进行抛光处理；数据采集单元用于采集所述待处理晶圆电化学反应的电荷量；所述控制单元根据所述数据采集单元采集到的数据，对所述抛光单元进行调节，根据电荷量，控制单元控制抛光单元在抛光过程中的工艺参数，使其与电化学反应的程度适配，实现了对晶圆表面反应后的精准抛光，提高了抛光效率。
本实用新型一种碳化硅晶圆化学机械抛光系统在权利要求书中公布了：1.一种碳化硅晶圆化学机械抛光系统，其特征在于，包括：电化学反应单元，具有至少一个，所述电化学反应单元包括反应槽1，所述反应槽1的内部用于放置待处理晶圆2和电解液，所述电化学反应单元通电对所述待处理晶圆2进行电化学反应；抛光单元3，用于对电化学反应后的待处理晶圆2进行抛光处理；数据采集单元，与所述电化学反应单元连接，用于采集所述待处理晶圆2电化学反应的电荷量；控制单元，与所述电化学反应单元、抛光单元3和数据采集单元之间电连接，所述控制单元根据所述数据采集单元采集到的数据，对所述抛光单元3进行调节。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人北京晶亦精微科技股份有限公司，其通讯地址为：100176 北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号2幢2层101；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号