恭喜京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司王旭获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司申请的专利一种显示面板、制备方法及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115377126B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211210268.9，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权一种显示面板、制备方法及显示装置是由王旭;李子华;蔡璐;崔星宇;郭强;金文强;景国栋;李春波;路江华;唐亮;王强;王旭东;徐东;徐国芳;张瑞卿设计研发完成，并于2022-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种显示面板、制备方法及显示装置在说明书摘要公布了：本申请公开一种显示面板、制备方法及显示装置，涉及显示技术领域，能够改善半导体结构的边缘对后续制备膜层膜质的影响，进而可以提高晶体管的电学性能。一种显示面板，包括：衬底层；第一栅绝缘层，设置于所述衬底层的一侧，所述第一栅绝缘层具有开口，所述开口内设置有半导体结构；第二栅绝缘层，所述第一栅绝缘层设置于所述衬底层与所述第二栅绝缘层之间，所述第二栅绝缘层覆盖所述半导体结构和所述第一栅绝缘层。
本发明授权一种显示面板、制备方法及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底层；第一栅绝缘层，设置于所述衬底层的一侧，所述第一栅绝缘层具有开口，所述开口内设置有半导体结构；第二栅绝缘层，所述第一栅绝缘层设置于所述衬底层与所述第二栅绝缘层之间，所述第二栅绝缘层覆盖所述半导体结构和所述第一栅绝缘层；所述第一栅绝缘层远离所述衬底层一侧的表面与所述半导体结构远离所述衬底层一侧的表面属于同一个平面；和或，所述半导体结构的厚度与所述第一栅绝缘层的厚度相同。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，其通讯地址为：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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