恭喜株式会社丽光岩崎胜也获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社丽光申请的专利耐化学药品性优异的层叠体及用于制造该层叠体的转印膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119053457B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280094928.3，技术领域涉及：B44C1/17；该发明授权耐化学药品性优异的层叠体及用于制造该层叠体的转印膜是由岩崎胜也;前川朋也;宫地大介设计研发完成，并于2022-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本耐化学药品性优异的层叠体及用于制造该层叠体的转印膜在说明书摘要公布了：获得提高了耐化学药品性的层叠体、以及用于在抑制箔毛边的产生的同时制造该层叠体的转印膜。一种转印膜，其特征在于，为在基材1上依次形成脱模层2、保护层3、中间层4、金属基底层5、金属薄膜层6和粘接层7的转印膜11，在包含保护层3、中间层4、金属基底层5和金属薄膜层6等的功能层10中，功能层10的厚度中的满足下述条件a、b和c的厚度为3μm以上且8μm以下，a至少包含多元醇化合物和多异氰酸酯化合物，b多元醇化合物的羟值为20mgKOHg以上且60mgKOHg以下，c多异氰酸酯化合物中含有的异氰酸酯基的总数相对于多元醇化合物中含有的羟基的总数的比率[NCO][OH]比为0.5以上且3.0以下。
本发明授权耐化学药品性优异的层叠体及用于制造该层叠体的转印膜在权利要求书中公布了：1.一种转印膜，其在塑料膜上至少依次形成有功能层和粘接层，所述转印膜的特征在于，至少功能层的厚度中的满足下述条件a、b和c的厚度为3μm以上且8μm以下，并且，功能层至少包含保护层和中间层，并且，保护层的满足下述条件a、b和c的厚度为0.5μm以上且5μm以下，并且，中间层的满足下述条件a、b和c的厚度为0.5μm以上且5μm以下，a：至少包含丙烯酸类多元醇化合物和多异氰酸酯化合物，b：丙烯酸类多元醇化合物的羟值为20mgKOHg以上且60mgKOHg以下，c：多异氰酸酯化合物中含有的异氰酸酯基的总数相对于丙烯酸类多元醇化合物中含有的羟基的总数的比率即［NCO］［OH］比为0.5以上且3.0以下。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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