恭喜西湖大学李西军获国家专利权
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龙图腾网恭喜西湖大学申请的专利掩模版、光刻装置、掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114690534B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210373932.5，技术领域涉及：G03F1/00；该发明授权掩模版、光刻装置、掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法是由李西军;宋春燕设计研发完成，并于2022-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模版、光刻装置、掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法在说明书摘要公布了：本公开涉及一种掩模版、光刻装置和掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法，掩模版包括：基板，基板被配置为对用于光刻的曝光光束透光，其中，曝光光束处于第一频带中；以及光致变色层，光致变色层设于基板的一侧上且包括光致变色材料，光致变色层被配置为在具有空间结构的调制光束照射下产生对应的掩模版图案，其中，光致变色材料基于是否被调制光束中的调制光照射到而处于对曝光光束的非透光状态或透光状态，且调制光束处于与第一频带分隔开的第二频带中。
本发明授权掩模版、光刻装置、掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法在权利要求书中公布了：1.一种掩模版，其特征在于，所述掩模版包括：基板，所述基板被配置为对用于光刻的曝光光束透光，其中，曝光光束处于第一频带中；以及光致变色层，所述光致变色层设于所述基板的一侧上且包括光致变色材料，所述光致变色层被配置为在具有空间结构的调制光束照射下产生对应的掩模版图案，其中，所述调制光束为在垂直于其行进方向的截面上具有非均匀的强度分布的光束，所述光致变色材料基于是否被调制光束中的调制光照射到而处于对曝光光束的非透光状态或透光状态，且调制光束处于与第一频带分隔开的第二频带中，所述调制光束是根据控制信号对处于第二频带中的初始光束进行转化生成的，所述初始光束具有在垂直于其行进方向的截面上的均匀的光强分布，所述控制信号是根据掩模版图案生成的，所述光致变色材料被配置为当移除对所述光致变色材料照射的调制光时，所述光致变色材料由透光状态恢复为非透光状态或者由非透光状态恢复为透光状态。
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