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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司申请的专利纹路识别模组、其制作方法及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117256018B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280000498.4，技术领域涉及：G06V40/13；该发明授权纹路识别模组、其制作方法及显示装置是由海晓泉;王迎姿;董学设计研发完成，并于2022-03-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本纹路识别模组、其制作方法及显示装置在说明书摘要公布了：纹路识别模组001、其制作方法及显示装置，包括纹路识别基板101，该纹路识别基板101包括衬底基板1011，以及在衬底基板1011一侧呈阵列排布的多个光敏器件1012；光阑层102，位于纹路识别基板101具有多个光敏器件1012的一侧，光阑层102的数量为一层，光阑层102包括呈阵列排布的透光孔V，透光孔V在衬底基板1011上的正投影位于光敏器件1012在衬底基板1011上的正投影内，透光孔V的深度h与透光孔V的最大孔径d1之比大于等于16且小于等于2；多个微透镜103，位于光阑层102远离纹路识别基板101的一侧，微透镜103在衬底基板1011上的正投影覆盖透光孔V在衬底基板1011上的正投影。

本发明授权纹路识别模组、其制作方法及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种纹路识别模组，其中，包括：纹路识别基板，所述纹路识别基板包括衬底基板，以及在所述衬底基板一侧呈阵列排布的多个光敏器件；光阑层，位于所述纹路识别基板具有所述多个光敏器件的一侧，所述光阑层的数量为一层，所述光阑层包括呈阵列排布的透光孔，所述透光孔在所述衬底基板上的正投影位于所述光敏器件在所述衬底基板上的正投影内，所述透光孔的深度与所述透光孔的最大孔径之比大于等于16且小于等于2；多个微透镜，位于所述光阑层远离所述纹路识别基板的一侧，所述微透镜在所述衬底基板上的正投影覆盖所述透光孔在所述衬底基板上的正投影；所述衬底基板包括纹路识别区、以及位于所述纹路识别区至少一侧的边框区；所述纹路识别基板还包括位于所述多个光敏器件所在层远离所述衬底基板一侧的屏蔽电极，所述屏蔽电极位于所述纹路识别区和所述边框区，且在所述边框区内，所述屏蔽电极包括多个镂空结构。

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