恭喜株式会社村田制作所阿部匡矩获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社村田制作所申请的专利导电性膜及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116745864B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280009193.X，技术领域涉及：H01B1/00；该发明授权导电性膜及其制造方法是由阿部匡矩;部田武志;岛崎淑子;坂本宙树设计研发完成，并于2022-01-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本导电性膜及其制造方法在说明书摘要公布了：提供一种导电性膜，其含MXene，初始电导率高，并且，能够维持高电导率。所述导电性膜，是包含具有1个或多个层的层状材料的粒子的导电性膜，所述层包括：由下式：MmXn式中，M是至少一种的第3、4、5、6、7族金属，X是碳原子、氮原子或它们的组合，n为1以上且4以下，m大于n并在5以下表示的层主体；存在于该层主体的表面的修饰或末端TT是从羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子所构成的群中选择的至少一种，导电性膜含有从Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W和Y所构成的群中选择的一种以上的过渡元素。
本发明授权导电性膜及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种导电性膜，是包含具有1个或多个层的层状材料的粒子的导电性膜，其中，所述层包括：由下式：MmXn表示的层主体，式中，M是至少一种的第3、4、5、6、7族金属，X是碳原子、氮原子或碳原子和氮原子的组合，n为1以上且4以下，m为大于n并在5以下；存在于该层主体的表面的修饰或末端T，T是从羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子所构成的群中选择的至少一种，所述导电性膜含有从Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W和Y所构成的群中选择的一种以上的过渡元素，所述过渡元素不构成所述MmXn本身，并且存在于所述层与层之间。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社村田制作所，其通讯地址为：日本京都府；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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