恭喜广东工业大学杨玉珏获国家专利权
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龙图腾网恭喜广东工业大学申请的专利一种图案化二维半金属薄膜的方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114023848B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111294178.8，技术领域涉及：H10F71/00；该发明授权一种图案化二维半金属薄膜的方法及其应用是由杨玉珏;刘子浩;黄颖;束开翔;董华锋;张欣;吴福根设计研发完成，并于2021-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种图案化二维半金属薄膜的方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种图案化二维半金属薄膜的方法及其应用，其包括在基底上旋涂光刻胶层后加热所述光刻胶层；曝光、显影形成图案化的光刻胶层；在图案化的光刻胶层上沉积预定厚度的Pt层；将沉积有Pt层的基底放置于第一无水乙醇中去除光刻胶层，随后将基底放置于第二无水乙醇中超声预定时间形成图案化的Pt层，所述超声的能量密度为42～54Wcm3；采用化学气相沉积工艺在基底上形成图案化的二维半金属二硫属化物PtR2层。该方法获得的二维半金属PtR2图案成功率高，其图案表面平整，厚度均匀，边缘非常整齐清晰没有残留。
本发明授权一种图案化二维半金属薄膜的方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种图案化二维半金属薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：在SiO2Si基底上旋涂光刻胶层后加热所述光刻胶层；曝光、显影形成图案化的光刻胶层；在图案化的光刻胶层上沉积10nm以下的Pt薄层；将沉积有Pt薄层的基底放置于第一无水乙醇中去除所述光刻胶层，随后将所述基底放置于第二无水乙醇中超声60~90秒形成图案化的Pt薄层，所述超声的能量密度为42~54Wcm3；在管式炉中采用化学气相沉积工艺，在所述基底上形成图案化的二维半金属二硫属化物PtSe2、PtTe2或PtS2层。
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