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恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司陈雄获国家专利权

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龙图腾网恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利光刻装置以及光刻装置的基底调整方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114609869B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011412052.1,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权光刻装置以及光刻装置的基底调整方法是由陈雄;宋光辉;李新振设计研发完成,并于2020-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。

光刻装置以及光刻装置的基底调整方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种光刻装置以及光刻装置的基底调整方法,所述光刻装置包括工件台和辊轮台,所述辊轮台用于传送基底至所述工件台上,所述工件台包括基底调整装置,所述基底调整装置用于调整基底在基底工位上的Rz方向位置,所述基底调整装置包括若干个吸附旋转模块、若干个夹持模块以及若干个驱动模块,当基底发生Rz方向偏移时,所述吸附旋转模块支撑若干个基底,所述夹持模块夹持基底,并带动基底绕所述吸附旋转模块转动,以此可以调整基底在基底工位上的Rz方向位置。

本发明授权光刻装置以及光刻装置的基底调整方法在权利要求书中公布了:1.一种光刻装置,其特征在于,包括工件台和辊轮台,所述辊轮台用于传送基底至所述工件台上,所述工件台包括基底调整装置,所述基底调整装置用于调整相同尺寸或不同尺寸的基底在基底工位上的Rz方向位置,所述基底调整装置包括:若干个吸附旋转模块,其被配置为在所述基底发生Rz方向偏移时吸附若干个基底,使基底受到夹持时仅绕所述吸附旋转模块的旋转中心旋转;若干个夹持模块,其被配置为在所述基底发生Rz方向偏移时夹持所述基底;若干个驱动模块,其被配置为驱动所述吸附旋转模块和或所述夹持模块做升降运动,并带动所述夹持模块做水平运动以驱动对应的基底绕所述吸附旋转模块转动。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海微电子装备(集团)股份有限公司,其通讯地址为:201203 上海市浦东新区张东路1525号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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