恭喜ASML荷兰有限公司S·B·汉森获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利光学确定结构中不同层中金属特征之间的电接触获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114830038B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080088467.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光学确定结构中不同层中金属特征之间的电接触是由S·B·汉森;B·H·高利设计研发完成，并于2020-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学确定结构中不同层中金属特征之间的电接触在说明书摘要公布了：描述了光学地确定结构中不同层中的金属特征是否彼此电接触。当金属特征包括不同的金属和或具有不同的尺寸，导致检测到反射辐射中的一个或多个共振时，基于一个或多个共振的光谱位置，确定不同层中的金属特征彼此接触或不接触。当金属特征由相同金属形成并且具有相同尺寸时，响应于检测到与金属特征相关联的单个共振，确定不同层中的金属特征彼此接触，并响应于检测到与金属特征相关联的两个以上共振，确定彼此不接触。
本发明授权光学确定结构中不同层中金属特征之间的电接触在权利要求书中公布了：1.一种被配置为确定结构中不同层中的金属特征是否彼此电接触的系统，所述系统包括：辐射源，被配置为用辐射照射所述结构的目标部分，所述目标部分包括所述结构的第一层中的第一金属特征和第二层中的第二金属特征；一个或多个传感器，被配置为检测来自所述第一金属特征和所述第二金属特征的反射辐射中的一个或多个共振；以及一个或多个处理器，操作地耦接到所述辐射源和所述一个或多个传感器，所述一个或多个处理器被配置成基于i检测到的所述共振的数量或ii检测到的所述共振的谱位置，来确定所述第一层中的所述第一金属特征是否与所述第二层中的所述第二金属特征电接触。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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