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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司申请的专利光学指纹传感器的制备方法、光学指纹传感器及显示屏获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112270248B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011149913.1，技术领域涉及：G06V40/13；该发明授权光学指纹传感器的制备方法、光学指纹传感器及显示屏是由王晶;刘明;刘政;田宏伟;樊宜冰;赵佳设计研发完成，并于2020-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学指纹传感器的制备方法、光学指纹传感器及显示屏在说明书摘要公布了：本公开提供了一种光学指纹传感器的制备方法、光学指纹传感器及显示屏，该制备方法至少包括：在背板结构层的表面制备像素定义层；利用支撑掩膜板在像素定义层的非像素区域开设第一非像素孔；在第一非像素孔内涂覆有机光电传感材料，形成有机光电传感层；在有机光电传感层远离背板结构层的表面蒸镀第一阴极层，以使第一阴极层包覆有机光电传感层。本公开利用支撑掩膜板在像素定义层的非像素区域形成有机光电传感层，无需使用精细掩膜板进行蒸镀，降低了制备成本，提高了制备效率；并且，将有机光电传感层制备在非像素区域，也即无需占用像素孔，进而不会影响显示屏中像素区域的开口率，提高了屏幕亮度以及发光效率，实现了更好的显示效果。

本发明授权光学指纹传感器的制备方法、光学指纹传感器及显示屏在权利要求书中公布了：1.一种光学指纹传感器的制备方法，其特征在于，至少包括：在背板结构层的表面制备像素定义层；利用支撑掩膜板在所述像素定义层的非像素区域开设第一非像素孔；在所述第一非像素孔内涂覆有机光电传感材料，形成有机光电传感层；在所述有机光电传感层远离所述背板结构层的表面蒸镀第一阴极层，以使所述第一阴极层包覆所述有机光电传感层。

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