恭喜惠普发展公司,有限责任合伙企业E·T·马丁获国家专利权
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龙图腾网恭喜惠普发展公司,有限责任合伙企业申请的专利射流模具中散置的射流元件和电路元件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116490368B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080106492.6,技术领域涉及:B41J2/14;该发明授权射流模具中散置的射流元件和电路元件是由E·T·马丁;J·R·普兹比拉;G·E·克拉克设计研发完成,并于2020-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本射流模具中散置的射流元件和电路元件在说明书摘要公布了:在一些示例中,一种射流模具包括分配流体的射流元件的排列,其中射流元件的每个射流元件包括射流致动器和流体腔室。射流模具包括在多个维度上的流体供给孔阵列,用于使流体与射流元件连通,其中沿着多个维度的第一维度的多个流体供给孔中的每一个不同于沿着多个维度的第二维度的多个流体供给孔。射流模具包括沿着射流模具的不同的轴散置在射流元件之间的区域中的电路元件,其中电路元件的每个电路元件包括有源器件。射流元件和电路元件形成在公共基底上。
本发明授权射流模具中散置的射流元件和电路元件在权利要求书中公布了:1.一种射流模具,包括:用于分配流体的射流元件的排列,所述射流元件的每个射流元件包括射流致动器和流体腔室;在跨基底的多个维度上的流体供给孔阵列,用于使所述流体与所述射流元件连通,其中沿着跨所述基底的所述多个维度的第一维度的多个流体供给孔中的每一个不同于沿着跨所述基底的所述多个维度的第二维度的多个流体供给孔;以及沿着所述射流模具的不同的轴散置在所述射流元件之间的区域中的电路元件,导致射流元件和电路元件沿着所述不同的轴交替排列,其中所述电路元件的每个电路元件包括有源器件,其中,所述射流元件和所述电路元件形成在公共基底上。
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