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龙图腾网恭喜苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司申请的专利一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114420765B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011077745.X，技术领域涉及：H10F77/30；该发明授权一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构及其制备方法和应用是由曹芳;叶晓亚;周思洁;邹帅;王栩生设计研发完成，并于2020-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构及其制备方法和应用，所述背膜结构包括位于电池片背面的氧化铝薄膜，在氧化铝薄膜上设有氮化硅薄膜，在氮化硅薄膜上设有氮氧化硅薄膜。本发明的背膜结构能够同时提高双面PERC背面及正面效率，本发明通过改进背面膜层结构提升P型双面PERC电池的背面转换效率，该背膜结构具有较优的氢钝化效果，还可以提升电池的开压和FF，从而实现正面转换效率的提升，可以使得P型双面PERC电池的双面率提高1～2％，电池正面的效率提升0.1％左右，提高企业的效益和竞争力，非常值得产业化应用。

本发明授权一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构，其特征在于，所述背膜结构由位于电池片背面的氧化铝薄膜、氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜组成，所述氧化铝薄膜上设有氮化硅薄膜，所述氮化硅薄膜上设有氮氧化硅薄膜；所述氧化铝薄膜的厚度为5～15nm，折射率为1.55～1.63；所述氮化硅薄膜的厚度为60～80nm，折射率为2.2～2.4；所述氮氧化硅薄膜的厚度为20～90nm，折射率为1.8；所述背膜结构在300nm～1200nm波长范围内反射率曲线最低点位于650～1000nm；所述背膜结构在300nm～1200nm波长范围内平均反射率为7.5％～11％；所述背膜结构采用如下方法制备，所述方法为以下步骤：A、将电池片背面朝上，放入石墨板中，再将石墨板放入ALD板式腔体中，在电池片背面镀上一层氧化铝薄膜；B、将步骤A得到的电池片背面朝上放入到石墨舟中，再将石墨舟放入管式PECVD中，通入氨气和硅烷气体，在氧化铝薄膜上进行镀膜，制备得到氮化硅薄膜；C、通入笑气、氨气和硅烷气体，在氮化硅薄膜上进行镀膜，制备得到氮氧化硅薄膜，进而得到所述背膜结构。

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