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龙图腾网恭喜弗劳恩霍夫应用研究促进协会申请的专利借助于磁控溅射涂覆具有平面或成形表面的基片的装置和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113646462B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080027179.3，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权借助于磁控溅射涂覆具有平面或成形表面的基片的装置和方法是由M·维尔戈;A·普夫卢格;S·布伦斯;A·凯撒;T·梅尔齐格;T·齐肯罗特设计研发完成，并于2020-04-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本借助于磁控溅射涂覆具有平面或成形表面的基片的装置和方法在说明书摘要公布了：根据本发明，提供了一种借助于磁控溅射涂覆具有平面或成形表面的基片的装置，借助于该装置可以涂覆具有任何形状的表面，例如具有可设定层厚度轮廓的透镜、非球面或自由形态表面，从而在基本完成的表面上保持层功能。还提供了一种借助于磁控溅射涂覆具有平面或成形表面的基片的方法。

本发明授权借助于磁控溅射涂覆具有平面或成形表面的基片的装置和方法在权利要求书中公布了：1.一种借助于磁控溅射涂覆具有平面或成形表面的基片的装置，包括：a真空室；b至少一个磁控管源2、3、4，所述至少一个磁控管源具有至少一个磁控管电极5、6、7作为涂覆源；c转台10，所述转台具有至少一个基片支架9，所述转台10能够实现一个基片18的第一旋转运动，并且所述至少一个基片支架9能够实现第二旋转运动；d至少一个可控电动机20，所述至少一个可控电动机耦接到所述至少一个基片支架9并且实现所述基片的所述第二旋转运动；以及e梯度掩模31，所述梯度掩模具有：·第一区域34，所述第一区域具有用于非均匀涂覆一个基片的几何形状，所述梯度掩模在轮廓上具有至少一个局部升起部分或至少一个局部凹陷部分，所述基片上的一个膜层厚度梯度在轮廓上能够经由所述至少一个局部升起部分或所述至少一个局部凹陷部分的侧部处的斜率来设定；和·第二区域35，所述第二区域具有实现均匀涂覆参考基片的几何形状；其中，所述装置的控制器用于控制耦接到所述至少一个基片支架9的所述至少一个可控电动机20，并且，通过所述控制器以协调所述第一旋转运动与所述第二旋转运动，使得所述第二旋转运动仅在所述至少一个基片18不低于所述至少一个磁控管源2、3、4的周期之内进行，其中，所述控制器用于控制所述至少一个可控电动机20以n步和以角度360°的移动来进行步进式第二旋转运动，n＝3、6、9或12。

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