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龙图腾网恭喜默克专利股份有限公司申请的专利在低T_g低聚物的存在下用于形成图案的增强定向自组装获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113286833B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080008010.3，技术领域涉及：C08F297/02；该发明授权在低T_g低聚物的存在下用于形成图案的增强定向自组装是由D·巴斯卡兰;V·蒙雷亚尔设计研发完成，并于2020-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本在低T_g低聚物的存在下用于形成图案的增强定向自组装在说明书摘要公布了：本发明涉及包含组分a、b和c的组合物。组分a是嵌段共聚物或嵌段共聚物的共混物。组分b是选自由低聚无规共聚物b‑1、低聚二嵌段共聚物b‑2、低聚二嵌段共聚物b‑3和至少这些中的至少两种的混合物组成的组的低Tg添加剂。组分c是旋转浇注有机溶剂。本发明还涉及所述组合物在定向自组装中的用途。本发明进一步涉及新的低聚二嵌段共聚物b‑2，其是嵌段A‑b和嵌段B‑b的低聚二嵌段共聚物，其中嵌段A‑b是具有结构III和IV的重复单元的无规共聚物，和嵌段B‑b是具有结构V和VI的重复单元的无规共聚物。

本发明授权在低T_g低聚物的存在下用于形成图案的增强定向自组装在权利要求书中公布了：1.包含组分a、b和c的组合物，其中a是嵌段共聚物组分或至少两种嵌段共聚物的共混物，b是选自由低聚无规共聚物b-1、低聚二嵌段共聚物b-2、低聚二嵌段共聚物b-3及其混合物组成的组的低Tg添加剂，其中b-1是具有结构Ib和结构IIb的两个重复单元的低聚无规共聚物，其中R1b和R2b是H并且R3b和R4b是甲基，并且基于结构Ib和IIb的重复单元的总摩尔数，结构Ib的重复单元的摩尔％值是40摩尔％至80摩尔％，并且结构IIb的重复单元的摩尔％值是20摩尔％至60摩尔％，并且其中结构Ib和IIb的重复单元的摩尔％的各个值选自它们各自的范围以使结构Ib和IIb的重复单元的总摩尔数加起来为100摩尔％；并且进一步地所述低聚无规共聚物b-1的Tg为0℃至80℃，Mn为1000gmol至5000gmol，并且多分散性为1.3至1.5， b-2是嵌段A-b和嵌段B-b的低聚二嵌段共聚物，其Mn为15,000至32,000且多分散性为1.03至1.08，其中嵌段A-b是具有结构III和IV的重复单元的无规共聚物，和嵌段B-b是具有结构V和VI的重复单元的无规共聚物，并且R5、R7、R9和R11独立地选自H或C-1至C-4烷基，其中R6为正辛基，R8为C-1至C-4烷基，R10为甲基，R12和R13为亚乙基，且R14为甲基，并且所述低聚二嵌段共聚物b-2的Tg值为0℃至95℃， 并且b-3是具有结构Ic的重复单元的嵌段A-c和具有结构IIc的重复单元的嵌段B-c的低聚二嵌段共聚物，其中R1c和R2c为H，R3c和R4c为甲基，并且基于结构Ic和IIc的重复单元的总摩尔数，结构Ic的重复单元的摩尔％值为36摩尔％至74摩尔％并且结构IIc的重复单元的摩尔％值为26摩尔％至64摩尔％，并且结构Ic和IIc的重复单元的摩尔％的各个值选自它们各自的范围以使结构Ic和IIc的重复单元的总摩尔数加起来为100摩尔％；并且所述低聚二嵌段共聚物b-3的Mn为15000gmol至30000gmol，多分散性为1.02至1.08且Tg为0℃至115℃， c是旋转浇注有机溶剂。

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