恭喜三星显示有限公司全志妍获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星显示有限公司申请的专利掩模组件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN111500978B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:201911404453.X,技术领域涉及:C23C14/04;该发明授权掩模组件是由全志妍设计研发完成,并于2019-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模组件在说明书摘要公布了:提供了一种掩模组件,所述掩模组件包括:掩模框架,具有开口;掩模,位于掩模框架上;以及支撑条,位于掩模框架与掩模之间,所述支撑条包括在第一方向上延伸的短边和在与第一方向交叉的第二方向上延伸的长边,其中,掩模具有在平面上与支撑条叠置的非有效区域和与非有效区域不同的有效区域,并且支撑条相对于它的总重量包含铁、34wt%至36wt%的镍以及12wt%至15wt%的铬。
本发明授权掩模组件在权利要求书中公布了:1.一种掩模组件,所述掩模组件包括:掩模框架,其中限定开口;掩模,位于所述掩模框架上,包括以一定间隔连续不断地布置的多个图案孔,并且具有在第一方向上延伸的长边和在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的短边;以及支撑条,位于所述掩模框架与所述掩模之间,所述支撑条包括在所述第一方向上延伸的短边和在所述第二方向上延伸的长边,其中,所述掩模具有在平面上所述支撑条与所述多个图案孔中的一些图案孔叠置的非有效区域和所述支撑条不与所述多个图案孔中的其余图案孔叠置的有效区域,所述支撑条相对于它的总重量包含铁、34wt%-36wt%的镍以及12wt%-15wt%的铬,其中,所述支撑条具有2000至10000的相对磁导率,其中,所述支撑条在第三方向上具有50μm至150μm的厚度,所述第三方向垂直于由所述第一方向和所述第二方向限定的平面,并且其中,所述支撑条具有所述掩模的相对磁导率的0.5倍或更小的相对磁导率。
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