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龙图腾网恭喜合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利密封结构及其制作方法和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111244039B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201811441329.6，技术领域涉及：H01L23/29；该发明授权密封结构及其制作方法和显示装置是由马涛;罗标;何为;杨成绍设计研发完成，并于2018-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本密封结构及其制作方法和显示装置在说明书摘要公布了：一种密封结构及其制作方法和显示装置，该密封结构包括：衬底基板；位于衬底基板上的密封胶；以及位于衬底基板和密封胶之间且与密封胶接触的接触层。在该密封结构中，接触层的远离衬底基板的接触层表面在与密封胶接触的接触位置处是非平坦的。该密封结构具有较好的阻隔水汽的能力。

本发明授权密封结构及其制作方法和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种密封结构，包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的密封胶；以及位于所述衬底基板和所述密封胶之间且与所述密封胶接触的接触层，其中，所述接触层的远离所述衬底基板的接触层表面在与所述密封胶接触的接触位置处是非平坦的，所述接触层表面在与所述密封胶接触的接触位置处设置有至少一个接触层凹槽，所述密封胶延伸到所述至少一个接触层凹槽中，其中，所述密封结构包括第一无机层和第二无机层，所述第一无机层位于所述衬底基板上，第二无机层位于所述第一无机层的远离所述衬底基板的一侧，所述第一无机层和所述第二无机层在所述衬底基板上的正投影都与所述密封胶在所述衬底基板上的正投影交叠，所述第一无机层和所述第二无机层都位于所述接触层和所述衬底基板之间，所述第一无机层、所述第二无机层以及所述接触层的材料的化学组成相同，并且所述第一无机层的折射率、所述第二无机层的折射率以及所述接触层的折射率依次减小，所述密封胶为光固化型密封胶。

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