恭喜奇跃公司杨书强获国家专利权
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龙图腾网恭喜奇跃公司申请的专利利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114185179B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111286344.X，技术领域涉及：G02B27/44；该发明授权利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统是由杨书强;V·辛格;K·罗;N-W·皮;F·Y·徐设计研发完成，并于2018-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统在说明书摘要公布了：本发明涉及利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统。一种制造具有变化的衍射元件深度的衍射结构的方法包括提供阴影掩模，该阴影掩模具有第一区域和第二区域，第一区域具有第一孔径尺寸与孔径周期比，第二区域具有小于第一孔径尺寸与孔径周期比的第二孔径尺寸与孔径周期比。该方法还包括邻近基板定位该阴影掩模。基板包括对应于衍射结构的蚀刻掩模。该方法进一步包括：将基板暴露于蚀刻剂；蚀刻基板以形成邻近第一区域的具有第一深度的衍射元件；以及蚀刻基板以形成邻近第二区域的具有小于第一深度的第二深度的衍射元件。
本发明授权利用阴影掩模实现可调梯度图案化的方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种沉积厚度可变材料的方法，所述方法包括：提供包括均匀衍射结构的基板，所述均匀衍射结构包括多个衍射元件；提供阴影掩模，所述阴影掩模具有第一区域和第二区域，所述第一区域具有第一孔径尺寸与孔径周期比，所述第二区域具有小于所述第一孔径尺寸与孔径周期比的第二孔径尺寸与孔径周期比；邻近所述基板定位所述阴影掩模；以及对所述基板执行沉积工艺以沉积所述厚度可变材料，其中邻近所述第一区域的层厚度大于邻近所述第二区域的层厚度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人奇跃公司，其通讯地址为：美国佛罗里达州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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