恭喜奇跃公司V·辛格获国家专利权
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龙图腾网恭喜奇跃公司申请的专利在压印光刻工艺中配置光学层获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115079514B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210838277.6，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权在压印光刻工艺中配置光学层是由V·辛格;M·N·米勒;F·Y·徐;S·杨设计研发完成，并于2018-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本在压印光刻工艺中配置光学层在说明书摘要公布了：本发明涉及在压印光刻工艺中配置光学层。一种配置光学层的压印光刻方法包括选择要施加到基板上以改变基板的有效折射率的纳米层的一个或多个参数；以及在基板上压印纳米层以改变基板的有效折射率，使得可透射通过基板的相对光量改变选定的量。
本发明授权在压印光刻工艺中配置光学层在权利要求书中公布了：1.一种方法，包括：形成第一光学层，其中形成所述第一光学层包括：在第一基板上压印第一纳米层，以及沿着所述第一基板形成第一功能图案，使得所述第一纳米层至少部分地包围所述第一功能图案；形成第二光学层，其中形成所述第二光学层包括：在第二基板上压印第二纳米层，以及沿着所述第二基板形成第二功能图案，使得所述第二纳米层至少部分地包围所述第二功能图案；以及形成第三光学层，其中形成所述第三光学层包括：在第三基板上压印第三纳米层，以及沿着所述第三基板形成第三功能图案，使得所述第三纳米层至少部分地包围所述第三功能图案；其中压印在所述第一基板上的所述第一纳米层确定所述第一基板的第一有效折射率，使得所述第一纳米层增加能够透射通过所述第一基板到达所述第二光学层的第一相对光量。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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