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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利获得测量的方法、用于执行过程步骤的设备和计量设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113467195B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110819582.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权获得测量的方法、用于执行过程步骤的设备和计量设备是由H·E·切克利;M·伊什巴士;W·J·M·范德文;W·S·C·罗洛夫斯;E·G·麦克纳马拉;R·拉赫曼;M·库珀斯;E·P·施密特-韦弗;E·H·A·戴尔维戈奈设计研发完成，并于2017-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本获得测量的方法、用于执行过程步骤的设备和计量设备在说明书摘要公布了：在执行光刻过程步骤之前或之后，从衬底W'上的位置获得测量。这种测量的示例包括在将图案应用到衬底之前进行的对准测量，以及在已经应用图案之后诸如套刻之类的性能参数的测量。从所有可能的测量位置302之中选择测量位置集合606、606'或606”。响应于使用初步选择的测量位置610所获得的测量，动态地选择202c所选测量位置的至少一个子集。高度的初步测量可以被用来选择用于对准的测量位置。在本公开的另一方面中，基于诸如高度测量或历史数据之类的补充数据来检测异常值测量。

本发明授权获得测量的方法、用于执行过程步骤的设备和计量设备在权利要求书中公布了：1.一种在执行光刻过程步骤之前或之后从衬底上的位置获得测量的方法，其中从所有可能的测量位置之中选择测量位置集合，并且在每个所选测量位置处测量由在所述衬底上的结构的属性构成，该测量发生在所述衬底的第一材料处理之后以及通过所述衬底的连续的第二材料处理使所述衬底发生物理或化学变化之前，所述第一材料处理与所述第二材料处理的类型不同，其中至少部分地响应于指纹的识别而动态地选择所选测量位置的至少一个子集，所述指纹的识别与在所述衬底的相同的所述第一材料处理之后以及通过所述衬底的所述第二材料处理使所述衬底发生相同的物理或化学变化之前使用初步选择的测量位置所获得的测量结果相关联。

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