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龙图腾网恭喜FMC公司申请的专利作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111574510B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010526060.2，技术领域涉及：C07D413/12；该发明授权作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物是由N·R·德普雷兹;R·P·雷蒂;P·L·萨佩;T·M·斯特文森设计研发完成，并于2015-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物在说明书摘要公布了：本申请涉及作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物。本发明公开了式1的化合物，包括其所有立体异构体、N‑氧化物和盐，其中Q、Z、R2、R3和m定义于公开中。本发明还公开了包含式1化合物的组合物和用于控制不期望植被的方法，所述方法包括使所述不期望植被或其环境与有效量的本发明的化合物或组合物接触。

本发明授权作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物在权利要求书中公布了：1.一种制备式1化合物的方法, 其中Q为 并且在5-位通过碳原子连接至式1；r为1；Z为O；R1为卤素、氰基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C4烷硫基烷基或SOnR1A；每个n独立地为0、1或2；R2为卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；m为0、1或2；每个R3独立地为卤素、氰基、羟基、硝基、氨基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C＝ONR3AR3B、C＝NOR3CH、C＝NR3DH、C1-C4烷氧基、C2-C4氰基烷氧基、C2-C4烷基羰基、C2-C4烷氧基羰基、C2-C4烷基羰氧基、C2-C4烷氧基烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、SOnR3E或C3-C6环烷基；每个R3在3-、4-或6-位连接至式1；R1A为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R3E为C1-C4烷基；R3A为C1-C4烷基；R3B为H或C1-C4烷基；R3C为H或C1-C4烷基；和R3D为H或C1-C4烷基，该方法包括在适当的溶剂中在碱存在下加热式2化合物： 其中Q为 并且在5-位通过碳原子连接至式1，r为1；Z为O；RA为H；R1为卤素、氰基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C4烷硫基烷基或SOnR1A；每个R3独立地为卤素、氰基、羟基、硝基、氨基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C＝ONR3AR3B、C＝NOR3CH、C＝NR3DH、C1-C4烷氧基、C2-C4氰基烷氧基、C2-C4烷基羰基、C2-C4烷氧基羰基、C2-C4烷基羰氧基、C2-C4烷氧基烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、SOnR3E或C3-C6环烷基；每个R3在3-、4-或6-位连接至式2；R1A为C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R3E为C1-C4烷基；R3A为C1-C4烷基；R3B为H或C1-C4烷基；R3C为H或C1-C4烷基；和R3D为H或C1-C4烷基，与式3化合物： 其中LG为卤素或SO2CH3；和R2为卤素、C1-C4烷基、或C1-C4卤代烷基。

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