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龙图腾网恭喜合肥中隐新材料有限公司申请的专利一种耐久度高的电磁屏蔽薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119255591B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411765143.1，技术领域涉及：H05K9/00；该发明授权一种耐久度高的电磁屏蔽薄膜及其制备方法是由袁忠才;邓学松;李冠昌;孙迎松设计研发完成，并于2024-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种耐久度高的电磁屏蔽薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种耐久度高的电磁屏蔽薄膜及其制备方法，涉及电磁屏蔽材料技术领域，包括复合材料基底层、金属氧化层、金属种子层、金属导电层、导电粘接层和离型膜；本发明通过陶瓷材料掺杂金属材料制成复合材料基底层，电磁屏蔽薄膜具备良好的机械性能和电磁屏蔽性能，且通过在金属氧化层上镀附金属种子层，不仅能改善电磁屏蔽薄膜的导电性，还能对复合材料基底层起到有效保护作用，另外采用金属合金作为导电层，能进一步提高电磁屏蔽薄膜的电磁屏蔽性能，通过导电粘接层将离型膜粘接在金属导电层上，提高结构强度，从而使该电磁屏蔽薄膜能同时兼顾光学透过率和电磁屏蔽性能，耐久度也得到提升，能满足现代电子设备对电磁屏蔽材料的高要求。

本发明授权一种耐久度高的电磁屏蔽薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种耐久度高的电磁屏蔽薄膜，其特征在于：包括复合材料基底层（1）、金属氧化层（2）、金属种子层（3）、金属导电层（4）、导电粘接层（5）和离型膜（6），所述复合材料基底层（1）、金属氧化层（2）、金属种子层（3）、金属导电层（4）、导电粘接层（5）和离型膜（6）从下至上依次分布，所述复合材料基底层（1）由陶瓷材料掺杂金属材料制成，所述陶瓷材料选自碳化硅、氮化硼或氧化锌中的一种，所述金属材料选自金属铜、金属铝或金属铁中的一种，所述金属氧化层（2）的构成材料选自氧化铁、氧化铜或氧化铝中的一种，所述金属种子层（3）的构成材料选自金属镍或金属银中的一种，所述金属导电层（4）的构成材料选自铝铁合金、铜铝合金或铜铁合金中的一种。

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