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龙图腾网恭喜上海贺东电子材料有限公司申请的专利一种绝缘镀层缺陷检测方法及检测系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119224113B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411718953.1，技术领域涉及：G01N27/92；该发明授权一种绝缘镀层缺陷检测方法及检测系统是由崔佳平;胡兵;王永超;赵泽良;王东旭设计研发完成，并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种绝缘镀层缺陷检测方法及检测系统在说明书摘要公布了：本申请涉及半导体设备技术领域，提供一种绝缘镀层缺陷检测方法及检测系统，方法包括：将待检测基材的与镀层面相对的导电面与所述下电极接触形成平板电极；将待检测基材的镀层面按照预设间距与上电极相对设置；向上电极施加预设电压，使得上电极能够形成尖端放电；启动运动控制模块，夹持上电极按照预设的检测路径运动，能够覆盖待检测基材的镀层面，其中，检测路径根据待检测基材的形状和镀层面的特点生成；检查镀层面是否有产生尖端放电的位置，产生过尖端放电的位置，说明此处位置的孔隙率超过设定标准，未产生尖端放电的位置，说明此处位置的孔隙率符合设定标准。本申请在不破坏镀层的条件下，通过尖端放电进行缺陷检测，提高了缺陷检测效率。

本发明授权一种绝缘镀层缺陷检测方法及检测系统在权利要求书中公布了：1.一种绝缘镀层缺陷检测方法，其特征在于，应用于检测绝缘介质击穿特性的测试装置，所述测试装置包括真空腔，所述真空腔内设置有测试平台和运动控制模块，所述测试平台包括相对设置的上电极和下电极，所述上电极为尖端电极，所述运动控制模块具有夹持部，能够夹持所述上电极进行移动，所述方法包括：将所述真空腔内的气压设置为低真空条件；将待检测基材的与镀层面相对的导电面与所述下电极接触形成平板电极，所述镀层面是采用等离子喷镀技术在材料表面形成致密的抗等离子腐蚀的镀层；将所述待检测基材的镀层面按照预设间距与所述上电极相对设置，并且所述预设间距及所述低真空条件满足汤逊放电条件；向所述上电极施加预设电压，使得所述上电极能够形成尖端放电；启动所述运动控制模块，夹持所述上电极按照预设的检测路径运动，能够覆盖所述待检测基材的镀层面，其中，所述检测路径根据所述待检测基材的形状和镀层面的特点生成；检查所述镀层面是否有产生尖端放电的位置，产生过尖端放电的位置，说明此处位置的孔隙率超过设定标准，未产生尖端放电的位置，说明此处位置的孔隙率符合设定标准。

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