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龙图腾网恭喜合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利一种掩模版的修正方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119002169B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411496072.X，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权一种掩模版的修正方法及系统是由王康;罗招龙设计研发完成，并于2024-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩模版的修正方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种掩模版的修正方法及系统，修正方法包括以下步骤：输入多个初始主图形，根据初始主图形中的图案类型，将多个初始主图形划为重要主图形和次级主图形，其中重要主图形和次级主图形具有一级优先常量；根据初始主图形的特征关键尺寸所在的尺寸区间，为初始主图形分配二级优先常量；依次为多个初始主图形分配权重系数和优先级系数，其中优先级系数为一级优先常量、二级优先常量和权重系数的乘积；根据初始主图形的优先级系数的大小，对多个初始主图形的优先级进行排序；以及获取辅助图形的添加规则，并按照初始主图形的优先级顺序，依次添加辅助图形至掩模版上。本发明提供了一种掩模版的修正方法及系统，能够增大图形工艺窗口。

本发明授权一种掩模版的修正方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种掩模版的修正方法，其特征在于，包括以下步骤：输入多个初始主图形，根据所述初始主图形中的图案类型，将多个所述初始主图形划为重要主图形和次级主图形，其中所述重要主图形和所述次级主图形具有一级优先常量，所述重要主图形具有第一一级优先常量，所述次级主图形具有第二一级优先常量，其中所述第一一级优先常量为A，所述第二一级优先常量为B，且A＜B，其中所述重要主图形包括金属结构图案和或硅通孔图案；根据所述初始主图形的特征关键尺寸所在的尺寸区间，为所述初始主图形分配二级优先常量，其中所述特征关键尺寸所在的尺寸区间越小，所述初始主图形的所述二级优先常量越小；依次为多个所述初始主图形分配权重系数和优先级系数，其中所述优先级系数为所述一级优先常量、所述二级优先常量和所述权重系数的乘积，其中位于第N个权重尺寸区间中的初始主图形的权重系数为第N权重系数，第N权重系数的数值满足以下公式：aNa1BQ1AQN；其中，aN为第N权重系数，a1为第一权重系数，B为所述第二一级优先常量，A为所述第一一级优先常量，Q1为第一个权重尺寸区间的所述二级优先常量，QN为第N个权重尺寸区间的所述二级优先常量；其中，N为大于1的自然数，多个所述权重尺寸区间按照关键尺寸递增的顺序排列；根据所述初始主图形的优先级系数的大小，对多个初始主图形的优先级进行排序；以及获取辅助图形的添加规则，并按照所述初始主图形的优先级顺序，依次添加所述辅助图形至所述掩模版上。

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