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龙图腾网恭喜达高工业技术研究院(广州)有限公司申请的专利金属膜配线蚀刻液及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118957588B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411331631.1，技术领域涉及：C23F1/26；该发明授权金属膜配线蚀刻液及其制备方法和应用是由阳后桂;张念椿设计研发完成，并于2024-09-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本金属膜配线蚀刻液及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了金属膜配线蚀刻液、金属膜配线的刻蚀方法及应用，涉及蚀刻液技术领域。以氧化性铈盐、有机磺酸、过氧类化合物、安定剂、功能化离子液体、氨基酸基低聚物、焦硫酸盐、醇醚类溶剂、Gemini表面活性剂和水为原料，各原料之间协同配合，过氧类化合物能够将蚀刻液中的还原态的CeIII离子进一步氧化还回成CeIV离子，实现CeIV离子的循环使用，通过协同醇醚类溶剂和氨基酸基低聚物以实现蚀刻液的长效寿命。制得的蚀刻液能够在不发生光刻胶抗蚀刻层渗透的前提下高效蚀刻铬金属膜配线结构，改善了现有的蚀刻液往往仅能满足某一种金属膜配线结构的蚀刻技术问题，可有效应用于不同规格铬及铬复合膜制程配线的蚀刻。

本发明授权金属膜配线蚀刻液及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种金属膜配线蚀刻液，其特征在于，按质量百分比计，包括：氧化性铈盐8%-25%、有机磺酸0.5%-9.5%、过氧类化合物2%-13%、安定剂0.5%-3.5%、功能化离子液体0.02%-1.0%、氨基酸基低聚物0.2%-2.5%、焦硫酸盐0.5%-3.5%、醇醚类溶剂0.8%-5.5%、Gemini表面活性剂0.05%-2.5%，余量为水；所述氧化性铈盐选自硝酸铈铵、硝酸铈钠、硝酸铈钾、硫酸铈铵、硫酸铈钠和硫酸铈钾中的至少一种；所述有机磺酸选自氨基磺酸、氨基甲磺酸、羟胺磺酸、羟乙基磺酸和3-羟基丙磺酸中的至少一种；所述过氧类化合物选自过氧化尿素、过氧乙酸、过氧化钠和过氧碳酸钠中的至少一种；所述安定剂选自聚乙二醇、乙二醇、丙二醇、二甘醇、三甘醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇和1,10-癸二醇中的至少一种；所述功能化离子液体选自含氨基功能化离子液体和含羟基功能化离子液体中的至少一种；所述含氨基功能化离子液体选自1-胺乙基-3-甲基咪唑硝酸盐、1-胺乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、1-胺乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-胺乙基-3-甲基咪唑双三氟甲烷磺酰亚胺盐、1-胺丙基-3-甲基咪唑硝酸盐、1-胺丙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐和1-胺丙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐中的至少一种；所述含羟基功能化离子液体选自1-羟乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、1-羟乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-羟乙基-3-甲基咪唑醋酸盐、1-羟乙基-3-甲基咪唑对甲苯磺酸盐、1-羟乙基-3-甲基咪唑硫酸氢盐、1-羟乙基-3-甲基咪唑磷酸二氢盐、1-羟乙基-2,3-二甲基咪唑四氟硼酸盐和1-羟乙基-2,3-二甲基咪唑六氟磷酸盐中的至少一种；所述氨基酸基低聚物为氨基酸和有机酸的共聚物，且数均分子量为1500-4500；所述氨基酸基低聚物选自天冬氨酸-柠檬酸共聚物、丝氨酸-柠檬酸共聚物、赖氨酸-柠檬酸共聚物、半胱氨酸-柠檬酸共聚物、天冬氨酸-苹果酸共聚物、丝氨酸-苹果酸共聚物、赖氨酸-苹果酸共聚物和半胱氨酸-苹果酸共聚物中的至少一种；所述焦硫酸盐选自焦硫酸钠、焦硫酸铵和焦硫酸钾中的至少一种；所述醇醚类溶剂均选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇甲醚、三乙二醇乙醚和三乙二醇丁醚中至少一种；所述Gemini表面活性剂选自Surfynol420、Surfynol440、Surfynol465和Surfynol485中的至少一种。

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