安徽立光电子材料股份有限公司何涛获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽立光电子材料股份有限公司申请的专利一种大面积均匀溅射的回转式立式真空磁控溅射镀膜结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222593993U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420607698.2，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型一种大面积均匀溅射的回转式立式真空磁控溅射镀膜结构是由何涛;朱磊;张继凡;张石亮设计研发完成，并于2024-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种大面积均匀溅射的回转式立式真空磁控溅射镀膜结构在说明书摘要公布了：本实用新型提出了一种大面积均匀溅射的回转式立式真空磁控溅射镀膜结构，所述镀膜结构设置有真空箱体，所述真空箱体两侧安装斜面挡块和平面挡块，所述斜面挡块和平面挡块后端通过齿轮齿条机构连接安装在真空箱体上，所述真空箱体内安装两组端头及旋转靶材，所述旋转靶材内侧安装六组工艺气管，所述工艺气管上设置有喷嘴，所述真空箱体设置有真空箱门；所述大面积均匀溅射的回转式立式真空磁控溅射镀膜结构采用氩气电离产生的正离子轰击靶材溅出的中性原子直接沉积或反应沉积到基片上形成膜层，能有效分层独立控制溅射过程中的氩气、温度等工艺条件，通过控制斜面挡块和平面挡块，控制膜层厚薄和密度，有效提高镀膜的效率和质量。
本实用新型一种大面积均匀溅射的回转式立式真空磁控溅射镀膜结构在权利要求书中公布了：1.一种大面积均匀溅射的回转式立式真空磁控溅射镀膜结构，包括有真空箱体（1）、齿轮齿条机构（2）、斜面挡块（3）、平面挡块（4）、旋转靶材（5）、端头（6）、工艺气管（7）、喷嘴（8）和真空箱门（9），其特征在于：所述大面积均匀溅射的回转式立式真空磁控溅射镀膜结构设置有真空箱体（1），所述真空箱体（1）靠上下两端安装斜面挡块（3），中部安装平面挡块（4），所述斜面挡块（3）和平面挡块（4）后端通过齿轮齿条机构（2）安装在真空箱体（1）内，所述齿轮齿条机构（2）部分结构穿过真空箱体（1）延伸到外部，所述真空箱体（1）内部安装两组旋转靶材（5），所述旋转靶材（5）两端通过端头（6）安装在真空箱体（1）内部，所述真空箱体（1）中部安装六组工艺气管（7），所述工艺气管（7）上设置有喷嘴（8），所述工艺气管（7）位于两组旋转靶材（5）内侧，所述真空箱体（1）设置有真空箱门（9），所述真空箱门（9）上设置有密封胶条。
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