日照国恩化学有限公司韩文钧获国家专利权
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龙图腾网获悉日照国恩化学有限公司申请的专利一种基于上展式气动底阀的下料装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222592602U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202420560633.7,技术领域涉及:B65G45/12;该实用新型一种基于上展式气动底阀的下料装置是由韩文钧;李强设计研发完成,并于2024-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于上展式气动底阀的下料装置在说明书摘要公布了:本申请涉及一种基于上展式气动底阀的下料装置,属于下料装置领域,包括料斗,料斗下端开设有输送口;阀体,阀体与料斗相连,阀体为两端开口的空腔体,阀体包括相连通的进料段和出料段,进料段远离出料段一端开设有入料口,入料口与输送口连通;出料段远离进料段一端开设有出料口;进料段对应入料口位置处设置有阀瓣,阀瓣能够将入料口密封,阀瓣设置有阀杆,阀杆远离阀瓣一端设置有电动旋转推杆,电动旋转推杆能够驱动阀杆伸缩和旋转,阀杆伸缩带动阀瓣运动,实现入料口的启闭;阀杆于进料段内部设置有刮板,刮板端部设置有毛刷,毛刷端部与进料段内壁抵接,阀杆旋转实现毛刷对进料段内壁的清理。本申请具有使阀体的清理更加方便的效果。
本实用新型一种基于上展式气动底阀的下料装置在权利要求书中公布了:1.一种基于上展式气动底阀的下料装置,其特征在于,包括:料斗1,所述料斗1下端开设有输送口11;阀体3,所述阀体3与所述料斗1相连,所述阀体3为两端开口的空腔体,所述阀体3包括相连通的进料段31和出料段32,所述进料段31远离出料段32一端开设有入料口311,所述入料口311与所述输送口11连通;所述出料段32远离所述进料段31一端开设有出料口321;所述进料段31对应入料口311位置处设置有阀瓣4,所述阀瓣4能够将所述入料口311密封,所述阀瓣4设置有阀杆6,所述阀杆6远离阀瓣4一端设置有电动旋转推杆61,所述电动旋转推杆61能够驱动所述阀杆6伸缩和旋转,所述阀杆6伸缩带动所述阀瓣4运动,实现所述入料口311的启闭;所述阀杆6于所述进料段31内部设置有刮板52,所述刮板52端部设置有毛刷521,所述毛刷521端部与所述进料段31内壁抵接,所述阀杆6旋转实现所述毛刷521对所述进料段31内壁的清理。
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