恭喜纽富来科技股份有限公司山田拓获国家专利权
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龙图腾网恭喜纽富来科技股份有限公司申请的专利带电粒子束描绘装置、带电粒子束描绘方法以及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114787966B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180006812.5，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权带电粒子束描绘装置、带电粒子束描绘方法以及存储介质是由山田拓设计研发完成，并于2021-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本带电粒子束描绘装置、带电粒子束描绘方法以及存储介质在说明书摘要公布了：减小漂移量的计算值与实际的漂移量之差。本发明的一方式的带电粒子束描绘装置具备：偏转器，调整上述带电粒子束相对于载置于工作台的基板的照射位置；发射数据生成部，根据描绘数据，生成包含每次发射的发射位置以及射束开启关闭时间的发射数据；漂移校正部，参照所生成的多个上述发射数据，计算向上述基板照射的上述带电粒子束的照射位置的漂移量，并基于该漂移量生成校正照射位置偏移的校正信息；偏转控制部，基于上述发射数据以及上述校正信息控制基于上述偏转器的偏转量；以及虚拟照射指示部，在描绘处理中，指示向上述工作台上的与上述基板不同的位置以预先求出的照射量照射上述带电粒子束的虚拟照射的执行。
本发明授权带电粒子束描绘装置、带电粒子束描绘方法以及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种带电粒子束描绘装置，具备：放出部，放出带电粒子束；偏转器，调整上述带电粒子束相对于载置于工作台的基板的照射位置；发射数据生成部，根据描绘数据生成包含每次发射的发射位置以及射束开启关闭时间的发射数据；漂移校正部，参照所生成的多个上述发射数据，基于多次发射的发射位置以及射束开启关闭时间，计算向上述基板照射的上述带电粒子束的照射位置的漂移量，基于该漂移量生成校正照射位置偏移的校正信息；偏转控制部，基于上述发射数据以及上述校正信息控制基于上述偏转器的偏转量；以及虚拟照射指示部，在描绘处理中，指示向上述工作台上的与上述基板不同的位置以预先求出的照射量照射上述带电粒子束的虚拟照射的执行。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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