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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利真空处理设备、真空系统、气体分压控制组件和控制真空处理腔室中气体分压的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114630922B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080076762.3，技术领域涉及：C23C14/56；该发明授权真空处理设备、真空系统、气体分压控制组件和控制真空处理腔室中气体分压的方法是由陈春诚;张鸿文;林信宏;杨启昌;克里斯托夫·蒙多夫;托马斯·格比利;于尔根·格里尔迈尔设计研发完成，并于2020-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本真空处理设备、真空系统、气体分压控制组件和控制真空处理腔室中气体分压的方法在说明书摘要公布了：提供一种用于在基板上沉积材料的真空处理设备110。真空处理设备110包括：真空腔室，真空腔室包括处理区域111；在真空腔室的处理区域111内的沉积设备112；在真空腔室内部的冷却表面113；和在冷却表面113与处理区域111之间的一个或多个可移动的遮挡件220。

本发明授权真空处理设备、真空系统、气体分压控制组件和控制真空处理腔室中气体分压的方法在权利要求书中公布了：1.一种真空处理设备，包括：真空腔室，具有开口；和密封件，构造为密封所述开口，所述密封件包括：用于沉积设备的固持件；和冷却表面，耦接至所述密封件，其中所述真空腔室包括处理区域，所述沉积设备在所述真空腔室的所述处理区域内，且所述冷却表面在所述真空腔室内部，所述真空处理设备进一步包括：至少部分地围绕所述冷却表面的一个或多个固定遮挡件，一个或多个可移动的遮挡件，位于所述冷却表面与所述处理区域之间，其中当所述一个或多个可移动的遮挡件处于关闭位置时，所述一个或多个固定遮挡件和所述一个或多个可移动的遮挡件提供用于所述冷却表面的封围，并且当所述一个或多个可移动的遮挡件处于打开位置时，所述一个或多个固定遮挡件和所述一个或多个可移动的遮挡件在所述冷却表面与所述处理区域之间提供流体路径。

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