恭喜信越化学工业株式会社桥上洋获国家专利权
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龙图腾网恭喜信越化学工业株式会社申请的专利层叠体、半导体装置及层叠体的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112771651B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980060388.5，技术领域涉及：H01L21/365；该发明授权层叠体、半导体装置及层叠体的制造方法是由桥上洋设计研发完成，并于2019-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本层叠体、半导体装置及层叠体的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种层叠体，其具有：晶体衬底；形成在该晶体衬底的主表面上且混合存在有以第一金属氧化物作为主成分的由刚玉型结构构成的结晶相的结晶区与非晶相的非晶区的中间层；及形成在该中间层上的以第二金属氧化物作为主成分的刚玉型结构的晶体层。由此能够提供一种具有充分抑制了晶体缺陷的高品质刚玉型结构的晶体的层叠体。
本发明授权层叠体、半导体装置及层叠体的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种层叠体，其特征在于，该层叠体具有：晶体衬底；形成在该晶体衬底的主表面上且混合存在有结晶相的结晶区与非晶相的非晶区的中间层，其中，所述结晶相的结晶区以第一金属氧化物作为主成分且由刚玉型结构构成；及形成在该中间层上的以第二金属氧化物作为主成分的刚玉型结构的晶体层，所述中间层进一步含有硅。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人信越化学工业株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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