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龙图腾网恭喜成都精密光学工程研究中心申请的专利基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN108761610B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201810606015.0，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅是由张明骁;马平;蒲云体;乔曌;卢忠文;吕亮;邱服民设计研发完成，并于2018-06-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅，属于光学领域，所述光栅包括衬底1和光栅层4，并且衬底1上依次镀制有反射膜2、氧化物介质膜连接层3，并在光栅层刻蚀光栅槽结构；所述反射膜2为折射率调控多层介质薄膜，该折射率调控多层介质薄膜2包括高折射率材料薄膜2‑1和低折射率材料薄膜2‑2。本发明提供的基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅的中心波长为1064纳米，在入射角度为‑1级利特罗角，在1050~1080纳米范围可以同时使TE、TM偏振方向上的‑1级衍射效率高于99%，波段内最高衍射效率高于99.5%，可以实现偏振无关入射光的高效率衍射。

本发明授权基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅在权利要求书中公布了：1.一种基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅，其特征在于，所述光栅包括衬底1和光栅层4，并且衬底1上依次镀制有反射膜2、氧化物介质膜连接层3，并在光栅层刻蚀光栅槽结构；所述反射膜2为折射率调控多层介质薄膜，该折射率调控多层介质薄膜2包括高折射率材料薄膜2-1和低折射率材料薄膜2-2；所述低折射率材料薄膜2-2的低折射率镀膜材料为SiO2,所述高折射率材料薄膜2-1的高折射率材料为Ta2O5或HfO2，所述氧化物介质膜连接层3的材料为SiO2；所述光栅层4为折射率调控多层介质膜光栅层；所述折射率调控多层介质薄膜2及所述光栅层4由离子束溅射双元拼接靶材的方法制备，在膜层镀制过程中,调节离子源和靶材之间的空间位置，实现膜层中高低折射率材料的混合比例控制；根据Lorentz-Lorentz模型建立高低折射率材料混合比例与膜层折射率的对应关系，从而通过调节高低折射率材料的混合比例实现膜层折射率的精确调控；进一步的，所述折射率调控多层介质薄膜2的折射率调控趋势为随光栅刻蚀深度递增。

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