恭喜应用材料公司蹇国强获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利经由气相沉积调谐P金属功函数膜的功函数获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111989762B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980026264.5，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权经由气相沉积调谐P金属功函数膜的功函数是由蹇国强;唐薇;林志周;马伯方;杨逸雄;张镁;刘雯伊设计研发完成，并于2019-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本经由气相沉积调谐P金属功函数膜的功函数在说明书摘要公布了：本公开内容涉及一种在基板上形成具有期望p功函数的p金属功函数氮化物膜的方法，包括：调节基板温度、一或多个时间上分开的气相脉冲的持续时间、钨前驱物与钛前驱物的比率、或反应的压力中的一或多项以将p金属功函数氮化物膜的功函数调谐为期望p功函数；和使基板与钨前驱物、钛前驱物、及反应气体的时间上分开的气相脉冲接触以在所述基板上形成具有期望p功函数的p金属功函数氮化物膜。
本发明授权经由气相沉积调谐P金属功函数膜的功函数在权利要求书中公布了：1.一种在基板上形成具有期望p功函数的p金属功函数氮化物膜的方法，包含以下步骤：调节基板的温度、一或多个时间上分开的气相脉冲的持续时间、钨前驱物与钛前驱物的比率、或反应的压力中的一或多项，以将p金属功函数氮化物膜的功函数调谐为期望p功函数；和使所述基板与所述钨前驱物、所述钛前驱物、及反应气体的时间上分开的气相脉冲接触，以在所述基板上形成具有所述期望p功函数的p金属功函数氮化物膜，其中具有所述期望p功函数的所述p金属功函数氮化物膜是WTiNC膜或者WxTiyNC膜。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人应用材料公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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