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龙图腾网恭喜奥卓真空设备技术(珠海)有限公司申请的专利一种基于靶材消耗自动补偿功能的薄膜沉积设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119392197B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510000128.6，技术领域涉及：C23C14/54；该发明授权一种基于靶材消耗自动补偿功能的薄膜沉积设备是由张永胜;徐旻生;庄炳河;张晓鹏;伍发根;杨凤鸣设计研发完成，并于2025-01-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于靶材消耗自动补偿功能的薄膜沉积设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于靶材消耗自动补偿功能的薄膜沉积设备，涉及薄膜沉积技术领域，包括有薄膜沉积设备主体和控制器，薄膜沉积设备主体外部设置有箱体，箱体内部安装有真空仓和控制器，真空仓内安装有承载台和多组靶材限定组件，真空仓上方设置有驱动电机和多组磁铁，真空仓内部底部安装有支撑平台和基台，支撑平台底部安装有调节组件和供气组件，调节组件与承载台连接，靶材限定组件之间设置有靶材块，靶材块与驱动电机配合，真空仓内部安装有多组检测组件，检测组件分别与驱动电机和调节组件配合，检测组件可检测晶圆表面，从而该装置使用时，能够根据晶圆呈现的状况，对供气组件、靶材进行补足。

本发明授权一种基于靶材消耗自动补偿功能的薄膜沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种基于靶材消耗自动补偿功能的薄膜沉积设备，包括有薄膜沉积设备主体（1）和控制器，其特征在于：所述薄膜沉积设备主体（1）外部设置有箱体（11），所述箱体（11）内部安装有真空仓（12）和所述控制器，所述真空仓（12）内安装有承载台（13）和多组靶材限定组件（2），所述真空仓（12）上方设置有驱动电机（14）和多组磁铁，所述真空仓（12）内部底部安装有支撑平台（121）和基台（122），所述支撑平台（121）底部安装有调节组件（3）和供气组件（4），所述调节组件（3）与承载台（13）连接，所述靶材限定组件（2）之间设置有靶材块（5），所述靶材块（5）与驱动电机（14）配合，所述真空仓（12）内部安装有多组检测组件（6），所述检测组件（6）分别与驱动电机（14）和调节组件（3）配合，所述检测组件（6）可检测晶圆表面；所述调节组件（3）包括有调节电机（31），所述调节电机（31）安装于支撑平台（121）底部，所述支撑平台（121）和基台（122）上方分别设置有限位槽，两组所述限位槽，所述调节电机（31）输出端安装有主动轮（32），所述支撑平台（121）上的限位槽内安装有从动轮（33），所述从动轮（33）与主动轮（32）相互配合，所述从动轮（33）上方安装有调节气缸（34），所述调节气缸（34）输出端通过轴承安装于基台（122）上的限位槽内，所述调节气缸（34）输出端与承载台（13）连接，所述调节电机（31）和调节气缸（34）分别与控制器连接；所述承载台（13）通过支杆安装于真空仓（12）内，所述承载台（13）通过轴承与支杆连接，所述承载台（13）上方设置有承载槽（131），所述承载台（13）外部中部设置有隔绝轴承（132），所述隔绝轴承（132）内嵌安装于承载台（13）上，所述隔绝轴承（132）外部安装有阻隔薄膜（133），所述阻隔薄膜（133）另一端与基台（122）连接。

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