安徽光智科技有限公司李雨健获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽光智科技有限公司申请的专利一种用于制备多晶金刚石膜的沉积台获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222631617U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420634419.1，技术领域涉及：C30B28/14；该实用新型一种用于制备多晶金刚石膜的沉积台是由李雨健;黄其荣;于金凤;赵俊贤;冯曙光;朱少锋设计研发完成，并于2024-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于制备多晶金刚石膜的沉积台在说明书摘要公布了：本申请公开了一种用于制备多晶金刚石膜的沉积台，化学气相沉积技术领域，包括沉积台本体；沉积台本体顶部设有供衬底置入的定位凹槽；凹槽底部边缘设有环形隔离凹槽；环形隔离凹槽用于将置入定位凹槽的衬底的边缘与沉积台本体隔离。其在沉积台本体顶部开设供衬底置入的定位凹槽，以实现对衬底的定位安装，再通过定位凹槽底部边缘的环形隔离凹槽，将置入的衬底的边缘与沉积台本体隔离开，避免衬底的边缘接触到沉积台本体。从而有效避免微波放电的“边沿效应”对衬底温度的影响，保证沉积台及衬底的边缘温度与中心温度差较小，达到了制备同一等级金刚石膜的温度要求。
本实用新型一种用于制备多晶金刚石膜的沉积台在权利要求书中公布了：1.一种用于制备多晶金刚石膜的沉积台，其特征在于，包括沉积台本体1；所述沉积台本体1顶部设有供衬底2置入的定位凹槽11；所述凹槽底部边缘设有环形隔离凹槽12；所述环形隔离凹槽12用于将置入所述定位凹槽11的衬底2的边缘与沉积台本体1隔离。
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