欣旺达电子股份有限公司冯静获国家专利权
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龙图腾网获悉欣旺达电子股份有限公司申请的专利固态电池及用电设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115207483B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210890724.2，技术领域涉及：H01M10/0585；该发明授权固态电池及用电设备是由冯静设计研发完成，并于2022-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本固态电池及用电设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种固态电池及用电设备。其中固态电池包括正极、负极、固态电解质层以及负极界面修饰层，负极界面修饰层设置在负极和固态电解质层之间，负极界面修饰层包括：自支撑结构层，自支撑结构层主要由碳材料构成；金属锂合金以及氮化锂，金属锂合金和氮化锂分布在自支撑结构层的内部和表面。负极界面修饰层的存在能够防止固态电解质与金属锂的直接接触；另外，负极界面修饰层中的碳材料，既可以传导锂离子，也可以传导电子；金属锂合金促进锂离子在界面层中的传输；氮化锂具有良好的离子传导能力；因此，通过在负极和固态电解质层之间设置负极界面修饰层，可以抑制锂枝晶的生长，保护金属锂负极，提升负极的循环稳定性和固态电池的循环寿命。
本发明授权固态电池及用电设备在权利要求书中公布了：1.一种固态电池，其特征在于，包括正极、负极、固态电解质层以及负极界面修饰层，所述负极界面修饰层设置在所述负极和所述固态电解质层之间，所述负极界面修饰层包括：自支撑结构层，所述自支撑结构层主要由碳材料构成；金属锂合金以及氮化锂，所述金属锂合金和所述氮化锂分布在所述自支撑结构层的内部和表面；基于所述负极界面修饰层的质量，所述碳材料占70~90%，所述金属锂合金占1~20%，所述氮化锂占0.01~10%；所述负极界面修饰层的厚度为5~10μm；所述界面修饰层的孔隙率在1~5%之间；所述固态电解质层的孔隙率为2%~10%；所述固态电解质层的厚度与所述负极界面修饰层的厚度比值在1000:（1~20）范围内。
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