恭喜中国科学院上海光学精密机械研究所魏见萌获国家专利权
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龙图腾网恭喜中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种含偶次非球面反射镜的全光康普顿散射装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114786323B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210225039.8，技术领域涉及：H05H7/00；该发明授权一种含偶次非球面反射镜的全光康普顿散射装置是由魏见萌;黎文开;王文涛;冯珂;彭宇杰;冷雨欣;李儒新;徐至展设计研发完成，并于2022-03-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种含偶次非球面反射镜的全光康普顿散射装置在说明书摘要公布了：一种含偶次非球面反射镜的全光康普顿散射装置，包括超强入射激光、气体靶以及偶次非球面反射镜。一束超强激光入射至偶次非球面反射镜表面，经其反射后会聚于z轴，与气体靶作用无失相地产生超快电子束，电子束在传播过程中同聚焦强激光产生自同步的持续康普顿散射。本发明集成电子加速与辐射产生为一体，利用偶次非球面反射镜对激光的会聚作用，大大提高了电子束的能量及其与激光的碰撞效率，使辐射得到了增强，且避免了反射激光对光学元件的损伤。本发明是一种适用于激光尾场电子加速的光束聚焦装置，涉及激光尾场电子加速及其辐射源的产生领域，尤其涉及一种基于激光尾场的全光康普顿散射领域。
本发明授权一种含偶次非球面反射镜的全光康普顿散射装置在权利要求书中公布了：1.一种含偶次非球面反射镜的全光康普顿散射装置，其特征在于，包括：超强入射激光1、偶次非球面反射镜2、气体靶3和真空腔4；在超强入射激光1的入射方向上依次摆放有气体靶3以及偶次非球面反射镜2，偶次非球面反射镜2与气体靶3均置于真空腔4内；所述的超强入射激光1的焦斑中心、气体靶3中心与偶次非球面反射镜2中心共轴；所述的偶次非球面反射镜2的半径与超强入射激光1的半径相等；所述的偶次非球面反射镜2中心带有小孔，小孔的半径为偶次非球面反射镜2直径的十分之一；所述的气体靶3作用点位于光轴上最短焦距处，气体长度与偶次非球面反射镜2的焦深相等。
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