沈阳芯源微电子设备股份有限公司张龙彪获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114114858B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111508500.2,技术领域涉及:G03F7/30;该发明授权一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备是由张龙彪;吴海洋;栾忠平;柴大利设计研发完成,并于2021-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备在说明书摘要公布了:本发明提供了一种胶嘴座承载装置,包括:承载体,胶嘴座设置于所述承载体上;所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔,所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部,所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通;所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径,并与所述喷嘴放置孔相切设置,使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流,以清洗所述喷嘴。通过喷嘴放置孔与喷嘴冲洗孔两者以相切的方式设置,使冲洗液从喷嘴冲洗孔进入喷嘴放置孔后形成涡流,对喷嘴放置孔内的喷嘴进行冲洗,进而去除喷嘴处的结块,改善光刻胶吐出量的稳定性,提高工艺的稳定性。本发明还提供了一种涂胶显影设备。
本发明授权一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备在权利要求书中公布了:1.一种胶嘴座承载装置,其特征在于,包括:承载体,胶嘴座设置于所述承载体上;所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔,所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部,所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通;冲洗管道,所述冲洗管道连通所述喷嘴冲洗孔,以提供冲洗液;所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径,并与所述喷嘴放置孔相切设置,使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流,以清洗所述喷嘴;所述承载体还包括排废圆形槽和排废冲洗孔,所述排废圆形槽设置于所述喷嘴放置孔的液流下游,以接收所述喷嘴放置孔内流出的废液,所述排废冲洗孔连通于所述排废圆形槽的底部,其直径小于所述排废圆形槽的半径,并与所述排废圆形槽相切设置,使冲洗液在所述排废圆形槽中形成涡流,冲洗所述排废圆形槽后从所述排废圆形槽中溢出;还包括夹紧组件,所述夹紧组件设置于所述承载体表面,以夹紧所述胶嘴座;所述承载体包括相互连接的承载体上部件和承载体下部件,所述承载体上部件与所述承载体下部件之间设置有密封圈;所述承载体上部件的上表面开设有竖直方向贯通的喷嘴放置孔。
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