恭喜飞秒光电科技(西安)有限公司房艳获国家专利权
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龙图腾网恭喜飞秒光电科技(西安)有限公司申请的专利插针镀膜方法、装置、电子设备和计算机存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115704083B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110880761.0，技术领域涉及：C23C14/22；该发明授权插针镀膜方法、装置、电子设备和计算机存储介质是由房艳;孙博;王旭东;司春妮设计研发完成，并于2021-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本插针镀膜方法、装置、电子设备和计算机存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种插针镀膜方法、装置、电子设备及计算机存储介质，涉及光通讯领域。方法包括：根据待镀膜的目标插针对应的目标参数，确定目标膜系结构，目标膜系结构用于指示目标插针的镀膜层数、各层的镀膜材料以及各层的镀膜厚度；基于目标膜系结构，控制真空镀膜机对目标插针进行镀膜，实现了对插针的镀膜，便于大规模应用，且镀膜的成功率较高，能够满足工业生产的要求。
本发明授权插针镀膜方法、装置、电子设备和计算机存储介质在权利要求书中公布了：1.一种插针镀膜方法，其特征在于，包括：根据待镀膜的目标插针对应的目标参数，确定目标膜系结构，所述目标膜系结构用于指示所述目标插针的镀膜层数、各层的镀膜材料以及各层的镀膜厚度；基于所述目标膜系结构，控制真空镀膜机对所述目标插针进行镀膜；所述目标插针对应的目标参数包括：至少一个预设波长区间的目标反射率和或目标透过率；所述根据待镀膜的目标插针对应的目标参数，确定目标膜系结构，包括：获取初始膜系结构、至少一个预设波长区间的目标反射率和或目标透过率，所述初始膜系结构用于指示初始镀膜层数、各层的初始镀膜材料以及各层的初始镀膜厚度；根据所述至少一个预设波长区间的目标反射率和或目标透过率优化所述初始膜系结构，得到所述目标膜系结构；所述根据所述至少一个预设波长区间的目标反射率和或目标透过率调整所述初始膜系结构，得到所述目标膜系结构，包括：使用预设的光学薄膜分析算法，以所述至少一个预设波长区间的目标反射率和或目标透过率作为约束条件，对所述初始膜系结构进行优化，得到目标膜系结构。
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