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龙图腾网恭喜中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113050363B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911380295.9，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法是由陈权设计研发完成，并于2019-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法在说明书摘要公布了：一种光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法，光学邻近修正模型的建立方法包括：提供晶圆版图图形和初始测试图形；获取晶圆版图图形和初始测试图形的光强参数信息；比较晶圆版图图形和初始测试图形的光强参数信息，并判断初始测试图形的光强参数信息是否涵盖晶圆版图图形的光强参数信息，当涵盖时，将初始测试图形作为测试图形，当未涵盖时，将初始测试图形所缺失的光强参数信息对应的图形作为新增图形，并将新增图形添加至初始测试图形中以获得测试图形；根据测试图形，建立与晶圆版图图形相对应的光学邻近修正模型。本发明所述光学邻近修正模型中的测试图形能够更好地表征晶圆版图图形，从而提高了光学邻近修正的精准度。

本发明授权光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正模型的建立方法，其特征在于，包括：提供晶圆版图图形和初始测试图形；获取所述晶圆版图图形的光强参数信息，以及获取所述初始测试图形的光强参数信息，所述光强参数信息包括多个空间光强参数；选取所述晶圆版图图形中多个空间光强参数中的至少两个，建立第一坐标系，选取所述初始测试图形中多个空间光强参数中的至少两个，建立第二坐标系；比较所述晶圆版图图形的光强参数信息和所述初始测试图形的光强参数信息，比较所述晶圆版图图形的光强参数信息和所述初始测试图形的光强参数信息的步骤包括：将所述第一坐标系和第二坐标系投影至同一二维平面坐标系中；判断所述初始测试图形的光强参数信息是否涵盖所述晶圆版图图形的光强参数信息，其中，在同一所述二维平面坐标系中，若所述晶圆版图图形的空间光强参数所在的区域范围位于所述初始测试图形的空间光强参数所在的区域范围内，则所述初始测试图形的光强参数信息涵盖所述晶圆版图图形的光强参数信息，将所述初始测试图形作为测试图形，若所述晶圆版图图形的空间光强参数所在的区域范围超出所述初始测试图形的空间光强参数所在的区域范围，则所述初始测试图形的光强参数信息未涵盖所述晶圆版图图形的光强参数信息，将所述初始测试图形所缺失的光强参数信息对应的图形作为新增图形，并将所述新增图形添加至所述初始测试图形中以获得测试图形；根据所述测试图形，建立与所述晶圆版图图形相对应的光学邻近修正模型。

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