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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板液处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN109616429B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201811137414.3，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板液处理装置是由益富裕之;池田贵志设计研发完成，并于2018-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板液处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供基板液处理装置。防止从内槽内的处理液表面飞散的处理液的飞沫飞散到内槽外侧的意料之外的区域。基板液处理装置具备：内槽，其能积存处理液并具有上部开口；外槽，其设置于内槽的外侧并供处理液从内槽流入；第1盖体，其能在覆盖内槽的上部开口的第1区域的封闭位置与使上部开口的第1区域开放的开放位置间移动；及第2盖体，其能在覆盖内槽的上部开口的第2区域的封闭位置与使上部开口的第2区域开放的开放位置间移动。第1盖体具有底壁和从底壁向上方延伸的侧壁，第2盖体具有底壁和从底壁向上方延伸的侧壁。在第1盖体和第2盖体位于封闭位置时，第1盖体的侧壁与第2盖体的侧壁接近而面对，在这些侧壁之间形成有具有高度的间隙。

本发明授权基板液处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板液处理装置，其具备：内槽，其能够积存处理液，并具有上部开口；外槽，其设置于所述内槽的外侧，所述处理液从所述内槽流入该外槽；第1盖体，其能够在覆盖所述内槽的所述上部开口的第1区域的封闭位置与使所述上部开口的第1区域开放的开放位置之间移动；以及第2盖体，其能够在覆盖所述内槽的所述上部开口的第2区域的封闭位置与使所述上部开口的第2区域开放的开放位置之间移动，所述第1盖体具有底壁和从所述底壁向上方延伸的侧壁，所述第2盖体具有底壁和从所述底壁向上方延伸的侧壁，在所述第1盖体和所述第2盖体位于封闭位置时，所述第1盖体的所述侧壁与所述第2盖体的所述侧壁接近而面对，在这些侧壁之间形成有具有高度的间隙，其中，所述第1盖体的所述底壁以随着远离所述第1盖体的所述侧壁而变高的方式倾斜，所述第2盖体的所述底壁以随着远离所述第2盖体的所述侧壁而变高的方式倾斜，在所述第1盖体和所述第2盖体位于所述封闭位置时，所述第1盖体的所述底壁的底面和所述第2盖体的所述底壁的底面与从所述内槽向所述外槽溢流时的所述处理液的所述内槽内的液面接触，所述第1盖体的所述侧壁的上端和所述第2盖体的所述侧壁的上端位于所述处理液的所述内槽内的液面上方。

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