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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN109585333B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201811119082.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置是由加茂陵贺;小早川亮设计研发完成，并于2018-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理装置。抑制微粒的产生，同时限制由处理空间的内压导致的盖体的移动。实施方式的基板处理装置是在高压环境下对基板进行处理的基板处理装置，其具备压力容器、盖体、以及锁定机构。压力容器具有开口。盖体封堵开口。锁定机构限制由压力容器的内压导致的盖体向开盖方向的移动。另外，锁定机构具备抵接构件、移动机构、以及滚动构件。抵接构件与盖体所具有的多个面中的作为与密封面相反的一侧的面的被抵接面抵接。移动机构使抵接构件在沿着被抵接面的方向上移动。滚动构件设置于抵接构件的与盖体或压力容器抵接的抵接面。

本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其是在高压环境下对基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具备：压力容器，其具有开口；盖体，其封堵所述开口；以及锁定机构，其限制由所述压力容器的内压导致的所述盖体向开盖方向的移动，所述锁定机构具备：抵接构件，其与所述盖体所具有的多个面中的作为与密封面相反的一侧的面的被抵接面抵接；移动机构，其使所述抵接构件在沿着所述被抵接面的方向上移动；以及滚动构件，其设置于所述抵接构件的与所述盖体或所述压力容器抵接的抵接面。

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