恭喜三星电子株式会社吕尚哲获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星电子株式会社申请的专利光学邻近校正（OPC）方法以及使用OPC方法制造掩模的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112462570B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010818384.3，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近校正（OPC）方法以及使用OPC方法制造掩模的方法是由吕尚哲;崔南柯设计研发完成，并于2020-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近校正（OPC）方法以及使用OPC方法制造掩模的方法在说明书摘要公布了：一种光学邻近校正方法包括：提取掩模上的图案的布局的边缘，边缘包括该布局的作为曲线边缘的至少一个边缘；以及通过对所提取的布局的边缘应用边缘滤镜来生成图案的光学图像，该边缘滤镜包括与曲线边缘的角度对应的任意角度滤镜。可使用源扇区旋转来生成任意角度滤镜以与曲线边缘的角度对应。
本发明授权光学邻近校正（OPC）方法以及使用OPC方法制造掩模的方法在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近校正方法，包括步骤：提取掩模上的图案的布局的边缘，所述边缘包括所述布局的作为曲线边缘的至少一个边缘；以及通过对所述布局的所提取的边缘应用边缘滤镜来生成所述图案的光学图像，所述边缘滤镜是能够生成与边缘对应的部分的光学图像的滤镜，并且具有能够根据边缘的位置和特性而变化的值，所述边缘滤镜包括与所述曲线边缘的角度对应的任意角度滤镜，使用源扇区旋转来生成所述任意角度滤镜以与所述曲线边缘的所述角度对应。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人三星电子株式会社，其通讯地址为：韩国京畿道；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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