恭喜株式会社斯库林集团奥谷学获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法以及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111489955B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911395272.5，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权基板处理方法以及基板处理装置是由奥谷学;大须贺勤;东克荣;阿部博史;吉原直彦设计研发完成，并于2019-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法以及基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在基板处理中，向被保持为水平状态的基板9的上表面91供给第一处理液，形成覆盖整个上表面91的第一处理液的液膜81。另外，对基板9进行加热，在上表面91上的第一处理液的液膜81与上表面91之间形成第一处理液的蒸气层82。然后，通过向基板9的上表面91供给第二处理液，从上表面91去除第一处理液的液膜81。由此，能够将随着蒸气层82的形成而进入第一处理液的液膜81的异物89从基板9的上表面91合适地去除。
本发明授权基板处理方法以及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，对基板进行处理，其中，所述基板处理方法具有：a工序，向被保持为水平状态的基板的上表面供给第一处理液，形成覆盖所述基板的整个上表面的所述第一处理液的液膜；b工序，对所述基板进行加热，在所述基板的上表面上的所述第一处理液的所述液膜与所述上表面之间形成所述第一处理液的蒸气层；c工序，通过向所述基板的上表面供给第二处理液，从所述上表面去除所述第一处理液的所述液膜，并且，使所述蒸气层消失，去除所述液膜中的异物。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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