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龙图腾网恭喜中央硝子株式会社申请的专利倒角部处理剂组合物和晶圆的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113169060B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980076584.1，技术领域涉及：H01L21/304；该发明授权倒角部处理剂组合物和晶圆的制造方法是由福井由季;奥村雄三;照井贵阳;公文创一设计研发完成，并于2019-10-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本倒角部处理剂组合物和晶圆的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的倒角部处理剂组合物为用于对晶圆的倒角部进行处理的、含有甲硅烷基化剂的倒角部处理剂组合物，具有按照规定的步骤测得的表面改质指标Y与表面改质指标Z满足0.5≤YZ≤1.0的特性。

本发明授权倒角部处理剂组合物和晶圆的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种倒角部处理剂组合物的使用方法，其为用于对晶圆的倒角部进行处理的、含有甲硅烷基化剂的倒角部处理剂组合物的使用方法，按照下述步骤1～4测得的表面改质指标Y与表面改质指标Z满足0.5≤YZ≤1.0，步骤1利用该倒角部处理剂组合物对在表面具有厚度1μm的硅氧化膜SiO2膜的基板进行处理，处理条件如下：将所述基板在室温下浸渍于1质量％的氢氟酸水溶液中10分钟，接着，在纯水中浸渍1分钟、在2-丙醇iPA中浸渍1分钟，接着，在该倒角部处理剂组合物中以25℃浸渍1分钟，接着，在iPA中浸渍1分钟，最后，将所述基板从iPA中取出，吹送空气，将所述基板表面的iPA去除，步骤2用水与iPA的混合比率不同的多个测定用液体，根据ZismanPlot法求出步骤1处理后的硅氧化膜的临界表面张力，将得到的临界表面张力的值mNm作为“表面改质指标Y”，步骤3利用该倒角部处理剂组合物对在表面具有厚度50nm的硅氮化膜SiN膜的基板进行处理，处理条件如下：将所述基板在室温下浸渍于1质量％的氢氟酸水溶液中10分钟，接着，在纯水中浸渍1分钟，在iPA中浸渍1分钟，接着，在该倒角部处理剂组合物中以25℃浸渍1分钟，接着，在iPA中浸渍1分钟，最后，将所述基板从iPA中取出，吹送空气，将所述基板表面的iPA去除，步骤4用水与iPA的混合比率不同的多个测定用液体，根据ZismanPlot法求出步骤3处理后的硅氮化膜的临界表面张力，将得到的临界表面张力的值mNm作为“表面改质指标Z”。

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